赵金辉

(中国电子科技集团公司第四十六研究所 天津300220)

超声波去蜡清洗技术研究

赵金辉

(中国电子科技集团公司第四十六研究所 天津300220)

超声波清洗技术是半导体材料制备的主要清洗方法，极大地提高了半导体材料制备的工作效率和清洗效果。阐述了超声波清洗作用原理。通过调节超声机功率密度、频率，进行晶片去蜡清洗实验，验证、分析了超声清洗过程中超声机功率密度、频率对晶片去蜡清洗的影响。

超声波 去蜡 功率密度 频率

0 引 言

超声波清洗速度快、质量好，并能大大降低环境污染，因此被广泛应用于工业领域。电子行业是超声波清洗应用最早、最为普及的行业。电子零件和电子元器件的基体清洗都需要采用超声波清洗。同时，该项技术还被晶片去蜡工艺采用，并发展成为主流去蜡工艺，极大的提高了晶片去蜡工艺的工作效率。

1 超声波清洗的作用原理

1.1 超声波清洗设备

超声波清洗设备由超声波发生器和换能器组成(见图 1)。

超声波发生器可以将低频电转变成20,kHz以上的高频电信号，通过高频电缆输送到换能器上。一般将超声波换能器固定在清洗槽的底板上，清洗槽内装满液体，当换能器被加上高频电压后，它的压电陶瓷元件在电场作用下便产生纵向振动。超声波换能器是一种高效率的换能元件，能将电能转换成强有力的超声波振动。在产生超声波振动时，相当于一个小的活塞，振幅很小，约几微米，但振动加速度很大(几十至几千个 g)。……