谭代木

(南京华日液晶显示技术有限公司，江苏南京 210038)

1 曝光机原理、性能指标及精度简介

1.1 曝光机原理

目前大部分曝光设备采用是非接触式曝光。原理是紫外光经掩模板 (MASK)对涂有光刻胶(P/R)的ITO玻璃曝光(MASK板与玻璃基板间隙约为50 μm)，曝光后的玻璃经显影产生与MASK板相同的图案。具体见图1。

图1 曝光原理

1.2 曝光机（MA-5501MC）性能指标

我公司是2002年从日本进口了一条LCD自动生产线，其中曝光机型号为MA-5501MC，以该设备为例其性能指标为：最大可曝光ITO玻璃尺寸：长度（355.6 mm±0.2 mm）×宽度（406.4 mm±0.2 mm）×厚度（0.4～1.1 mm），曝光底板（也称掩膜板）尺寸：长度（406.4 mm±0.5 mm）×宽度（457.2 mm±0.5 mm）×厚度（5.0 mm±0.3 mm）。

1.3 精度

在曝光底板平面度最大15 μm，ITO玻璃弯曲度最大0.2 mm，曝光底板厚度5 mm，曝光底板与ITO玻璃间隙50 μm时曝光显影后图案分辨率为 8 μm。

2 曝光机（MA-5501MC）的系统构成（硬件）

（1）MA-5501MC自动曝光机系统（硬件）由主体及附属设备组成。

（2）MA-5501MC自动曝光机主体由曝光室、掩模板盒、掩模板输送台、操作面板、曝光积算器、压缩空气控制面板、控制箱前面板、高效空气过滤器、曝光光源、影像处理器等组成。其中，曝光室由基板传送机构、基板工作台、基板驱动及对位机构、掩模板传送机构、掩模板holder及定位机构、间隙传感器、对位及间隙监视器等组成。

（3）MA-5501MC自动曝光机附属设备则由主控制箱、曝光灯供电装置、冷却装置、精密温湿度控制净化空气调节器等组成。

3 曝光机的工作流程及自动对位与间隙整定

（1）曝光机系统可在非接触条件下，自动完成掩模板与基板的对位、校正，并自动完成从基板输入、间隙整定、对位、曝光和基板输出全过程。……