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DRF-J45型镓单晶炉的开发与设计

2012-06-28袁长路李伯军李留臣

电子工业专用设备 2012年7期
关键词:生长

袁长路,李伯军,李 杰,李留臣

(江苏华盛天龙光电设备股份有限公司,江苏金坛213200)

镓是易熔合金的良好组元,广泛应用于光电行业。纯镓及其易熔合金可作核反应堆的热交换介质。由于镓的液态温度范围很大,随温度升高体积膨胀均匀,可作高温温度计[4]或防火信号装置等。用镓铝合金代替水银制造医用紫外线辐射灯,能改善医疗效果。生产半导体材料是镓的主要用途,如:制取化合物半导体砷化镓、磷化镓[2,3]等,也是锗和硅的掺杂元素。在微波器件领域内,砷化镓是最有前途的半导体材料。为此,我们研制开发了DRF-J45镓单晶炉,主要用于镓晶体生产。通过提拉法生长方式,将晶体的纯度提高到半导体产业使用级别。

1 镓单晶生长工艺特点

1.1 镓的主要性能特点

镓是银白色金属,密度5.904 g/cm3,熔点29.78℃,沸点2 403℃,化合价2和3,第一电离能5.999 eV,凝固点很低。由于稳定固体的复杂结构,纯液体有显著过冷的趋势,可以放在冰浴内几天不结晶,质软、性脆,在空气中表现稳定,加热可溶于酸和碱;与沸水反应剧烈,但在室温时仅与水略有反应。高温时能与大多数金属作用。由液态转化为固态时,膨胀率为3.1%,宜存放于塑料容器中。用途是制造半导体砷化镓、磷化镓[2,3]、锗半导体掺杂元;纯镓及低熔合金可作核反应的热交换介质;温度计的填充料;有机反应中作二酯化的催化剂。

1.2 镓单晶生长工艺要求

根据金属镓的性能特点,制备高纯镓的工艺方法很多,比较有效的方法是单晶提拉提纯生长。……

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