李 克，郭 立，毛朝斌，陈特超，李健志

(中国电子科技集团公司第四十八研究所，国家光伏装备工程技术研究中心，长沙，410111)

扩散炉是晶体硅电池生产线前道工序的重要工艺设备之一，其主要用途是对半导体进行掺杂，形成PN结。它是在高温条件下将掺杂材料扩散进硅片，从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布，以便建立起不同的电特性区域。影响扩散质量的主要因素有：工艺时间、温度均匀性、气流稳定性，其中管内的气体流动对工艺影响非常大。由于工厂所有设备酸性气体排放都是汇总到一根总排废管道内，所以对每台设备来说，外围抽风是不稳定的，管内压力不均，管内的气流越不均衡，出现管内前后端压力偏差大，电池片方块电阻片间与批间差别大的现象，炉口部分经常出现电阻突变的现象：片间电阻变小，片内电阻出现上端高，下端低的不均匀现象，所以有必要对管内气流进行控制，使进入和排出的气流保证一定比例，确保管内压力均匀。而扩散后的废气多为酸性气体等腐蚀性强的物质，所以对管内压力控制时，排放和检测等都应该注意防腐处理[1]。

1 系统要求及原理

扩散设备的反应管一般是尾部进气，气体流量随工艺过程变化，反应完的气体从管口部分的抽气管排走，由于外围接的抽气管道抽风不稳定，以及工艺过程气体流量变化，管内气流流速，压力不稳定[2]。在反应管内部取一测试点，检测内部压力……