刘本旭,宋宝东

(天津大学化工学院，天津 300072)

高纯的氯化氢气体在半导体设备的制造中有重要作用，不论是在硅晶体的外延，还是在硅片刻蚀中都对氯化氢的干燥度有极高要求。并且含水的氯化氢有强的腐蚀性，其输送管道需频繁检修以及更换[1]。因此将氯化氢气体中的水分脱除到尽可能少是很有必要的。

目前，气体的干燥主要有3种方式: 化学除湿法、冷冻除湿法和吸附法。化学除湿法是采用液体如硫酸、氯化锂、溴化锂和甘油来吸收气体中水分，或者采用活性固体如氢氧化钠、氢氧化钾、硫酸钙或无水氯化钙进行除水；冷冻除湿法是采用制冷剂如氟利昂、液氮对气体进行冷冻干燥，并利用蓄冷器及可逆式换热器冻结除去微量水；吸附法则是利用多孔性的固体吸附剂如活性氧化铝、硅胶和分子筛等处理气体混合物，使气体中的水分被吸附到固体表面从而达到干燥气体的目的[2]。化学除湿法虽然操作简单，但是在使用时要考虑气体与除湿剂的反应；冷冻除湿法则存在干燥剂(制冷剂)消耗快，不经济的缺点，而且水分容易冻结，阻塞管道。与其它两种方法相比，吸附法具有工艺操作简便、自动化程度高以及吸附剂可以再生使用且寿命长等优点。国内外的很多文献报道用吸附的方法除去氯化氢中的水以获取高纯度的氯化氢气体[3-7]。

基于吸附法的诸多优点，本论文应用Aspen Adsorption模拟氯化氢脱水，目的在于减少实际的试验次数，为缩短设计时间、节约试验成本提供一种思路。……