尚福亮 张忠健 杨海涛

(1.深圳大学材料学院，深圳市特种功能材料重点实验室，广东深圳518060；2.株洲硬质合金集团有限公司，湖南株洲412000）

0 前言

WO3薄膜是一种重要的功能材料，因其具有优良的光电性能而在许多领域得到了广泛的应用。利用WO3的电致变色性能可以制备出各种电致变色器件，如电致变色灵巧窗，无眩反光镜等[1-4]；利用其对某些气体的敏感性，可以制成各种含氢气体传感器等[5]。WO3薄膜的制备方法有很多种[6-11]，如真空蒸发法、溅射法、沉积法、溶胶凝胶法等，其中溅射法是一种制备高纯度、高致密度薄膜的较成熟方法，已经在工业生产中得到广泛应用，如现在的ITO导电玻璃的生产中，基本上都是采用溅射法。在采用溅射工艺制备WO3薄膜时，需要消耗大量的WO3靶材，因此，WO3靶材有着广阔的市场需求，但是国内外却鲜有对WO3靶材制备的报道。国内实验室制备的WO3靶材，存在致密度不高、成分不纯、在较高氧失位的缺点，离工业应用还有明显的差距。目前国内应用的WO3靶材大多数为日本进口，成本很高。

如上所述，开展WO3靶材制备技术的研究具有重要的意义。本文主要是研究利用低成本的常压烧结工艺，制备高纯度和高致密度的WO3靶材，为WO3薄膜的制备及应用奠定基础。

1 实验

称取适量的WO3粉体(郴州钻石钨制品有限公司，纯度99.9%)，因其粒度较高，平均粒度在15μm左右，需要进行球磨。将钨柱、WO3粉体和水按2∶2∶1的比例混合，置于球磨机上球磨24h。由于WO3粉体可塑性差，难以单独压制成型，所以在球磨的最后1h，按粉体质量的5%，加入聚乙二醇（PEG-1500）作为成型剂。……