罗廷礼

（河北省科学院激光研究所，河北石家庄 050081）

金刚石膜中的黑色层状缺陷及非相关成因

罗廷礼

（河北省科学院激光研究所，河北石家庄 050081）

对高功率直流电弧等离子体喷射法制备的金刚石膜中的黑色层状缺陷进行了研究。沉积过程中通过改变沉积速率；适量加氧、加水、加氮；采用高纯气体；调整漏气率；多台设备并联运行；单台设备反复运行和交换零部件多种手段，均未找到其成因。中对用黑厚时位式新理念的研究作了报导。证实夹层成因和膜制备过程中的上述因素间无密切关系。

金刚石膜；黑色层状缺陷；黑度－厚度－时位式

金刚石膜在高新科技领域，特别是电子技术中具有广泛应用，因此被公认为是最有发展前途的新型电子材料［1］，其潜在的应用领域包括高能粒子探测器，红外微波强激光窗口，超薄X射线窗口等。

用高功率直流电弧等离子体喷射法制备的高品质金刚石膜中存在着点状和云团状黑色缺陷［2］外，膜中还有黑色层状缺陷。这对膜的热导率，磨耗比，三点抗弯断裂强度等特性，都有影响。因此，查明成因，消除夹层，对提高和改进膜质有重大作用。我们发现E06148－800μm厚的金刚石膜（见表4）由13层组成［3］；500～1500μm厚的膜中，薄的夹层不足10μm，（同表D06147）不做成专用检测条、或检测条透光率过低、层间反差对比度不足、均不能看到黑夹层。再者，人们更多关注的是膜的完整性和透光率的提高。虽然也曾有人关注过黑夹层问题，但此前尚未见到有关这类缺陷及其分类、成因、表征方法、对膜性能影响研究的报导。……