焦可如 黄树涛 周 丽 许立福

1.沈阳理工大学，沈阳，110159 2.长春理工大学，长春，130022

CVD金刚石膜抛光技术综述

焦可如1，2黄树涛1周 丽1许立福1

1.沈阳理工大学，沈阳，110159 2.长春理工大学，长春，130022

针对近年来国内外的化学气相沉积（CVD）金刚石膜的抛光方法（机械抛光、热化学抛光、化学辅助机械抛光、电蚀抛光和高能抛光等）的原理、优缺点进行了分析论述，指出了今后金刚石膜抛光研究中亟待解决的问题，并展望了CVD金刚石膜抛光技术的发展趋势。

化学气相沉积；金刚石膜；抛光技术；表面粗糙度

0 引言

金刚石是碳的同素异形体，独特的天然面心立方晶格的晶体结构，使它具有优异的力学、热学、光学、电学和声学特性，如：①硬度最高，显微硬度可达10000kg／mm2，是制作切削工具的极佳材料；②热导速度最快，热导率高达12 W／（cm·K），是电子器件的理想散热材料；③透光性最好，是防腐耐磨红外光学窗口和高功率激光窗口的理想材料；④禁带宽度高达5.5eV，制作的半导体器件可靠性高，抗辐射能力强；⑤具有高的弹性模量，导声速度快，便于高频声学高保真传输；⑥化学稳定性好，耐腐蚀、抗辐射，适合在军队和恶劣环境中应用。这些优异的特性使金刚石具有广泛的应用领域，但由于天然金刚石储量稀少、价格昂贵，因而国内外学者就将研究热点集中到人工生长金刚石上来。1962年，Eversole［1］用化学气相法成功合成了化学气相沉积（chemical vapor deposition，CVD）金刚石，20世纪80年代又出现了热丝CVD、等离子体CVD、燃焰CVD和激光CVD等金刚石膜制备方法。但金刚石膜在生长过程中往往会产生厚度不均匀、晶粒大小不一、内部应力和表面凸凹不平等缺陷，这些缺陷严重制约了金刚石膜的广泛应用，因此，对CVD金刚石膜的抛光技术的研究就成了其发挥优异性能的必要前提。……