孙榕泽

2021年11月7日，在上海举行的第四届进博会上，荷兰阿斯麦公司展示EUV光刻机的内部运作原理。

6月30日，荷兰政府宣布对部分先进芯片制造技术及产品施行出口管制，自9月1日起正式实施。此次荷兰出台的半导体出口管制规定主要针对特定的先进半导体制造设备，包括薄膜生产、光刻设备、沉积设备以及生产先进半导体制造设备所需的工艺及材料。尽管此次荷兰颁布的半导体出口新规仅涵盖八类半导体相关物项，但由于涉及不同工序工艺和核心关键设备光刻机，因此将对中国半导体产业的发展产生重要影响。

限制先进光刻机的对华出口

新规所针对的目标明显，即收紧荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）对华光刻机的出口。光刻机是制造高精密半导体的必备设备，其制造工艺十分复杂，零部件精细繁杂。ASML是世界上唯一生产高难度极紫外（EUV）光刻机的厂商，堪称欧洲参与全球半导体产业链的关键控制点与“最强武器”。自2019年以来，荷兰已就ASML对华EUV光刻机出口进行了限制，此次发布新规是进一步收紧ASML对华光刻机的出口。新规发布后，ASML随即发布声明，称新规主要涉及的光刻机设备为最先进的浸润式光刻设备——TWINSCAN NXT﹕2000i及后续推出的先进浸润式深紫外（DUV）光刻设备，而其他光刻设备，包括TWINSCAN NXT﹕1980系列浸润式光刻设备，以及更低端光刻设备，目前暂时未受到荷兰政府的管控。

由于当前光刻机市场供不应求，加之ASML在该市场上处于垄断地位，预计新规不会对ASML产生明显冲击。……