张余

6月8日，华海清科（688120.SH）正式在科创板挂牌。经过多年深耕，公司已成长为国内领先的化学机械抛光（CMP）设备龙头供应商，公司目前产品总体性能已达到国内领先水平，并成为国内惟一一家可以提供12英寸CMP商业机型的高端半导体设备制造商。

据招股书显示，此次IPO，公司共计募集资金36.44亿元，募资将主要用于高端半导体装备（化学机械抛光机）产业化项目、高端半导体装备研发项目、晶圆再生项目和流动资金补充，募投项目的建设将从研发创新与产能扩张两方面共同强化公司的核心竞争优势。长期以来，华海清科致力于研发创新，科创属性突出，公司所产主流机型成功打破了国际巨头垄断，有效支撑了国内集成电路产业的快速发展。此次登陆科创板，在资本市场助力下，公司成长性或将得到进一步显现。

近年来，在政策扶持和市场需求增长双重利好驱动下，我国集成电路行业迎来了快速发展机遇。作为半导体制造的关键工艺装备，市场对CMP设备的需求快速提升。业内人士分析表示，当前CMP设备国产化已进入从1到10的放量阶段。短期来看，2022年前半年半导体产业下游需求保持结构性增长，有望带动半导体产业链内相关企业业绩上行。而中长期，地缘冲突或加快科技产业的逆全球化进程，在半导体设备国产化趋势下，该领域优质企业有望随国内晶圆厂扩产实现快速成长。

从华海清科业绩表现来看，近年随着订单量的持续上升，华海清科的主业发展已进入高速增长轨道。数据显示，2019年至2021年期间，公司CMP设备的营收规模分别达到1.95亿元、3.53亿元和6.94亿元，核心业务营收的复合增速达到88.65%，带动公司整体业绩实现快速增长。

据统计，截至目前，公司CMP设备已累计出货超140台，其中，2021年公司生产的300系列和200系列产品的产量分别达到87台和6台，销量达到36台，产销量均较上年实现大幅提升。与此同时，公司还拥有未发出产品的在手订单超70台，充足的在手订单为公司业绩持续增长提供了可靠保障。

此外，值得一提的是，除了CMP设备出货量的提升，公司同时也对CMP设备的关键耗材更新与技术服务、晶圆再生、减薄设备等业务进行了重点开拓。

从规模体量来看，CMP市场中CMP耗材约占接近68%，规模体量在CMP设备之上。而目前，华海清科已成功获得了该项业务订单并形成规模化销售。预计未来耗材业务有望成为驱动公司业绩增长的另一引擎。

创新决定未来，在高速成长的同时，华海清科始终坚持自主创新的发展路线，不断加大研发投入。据wind数据显示，2019年至2021年，公司的研发投入金额分别为0.45亿元、0.58亿元和1.19亿元，期间研发投入占营业收入的比例均值达到17%以上，其高强度的研发投入为公司技术水平的提升奠定了坚实基础。

据公告显示，截至2021年12月31日，华海清科已累计拥有已授权专利209项，其中发明专利114项。与此同时，公司核心研发团队先后承担了两项“国家科技重大专项（02专项）”的主要课题及三项国家级重大项目/课题;攻克了创新纳米级抛光、纳米颗粒超洁净清洗、纳米精度膜厚在线检测、大数据分析及智能化控制等多项关键核心技术;相继研制出具有自主知识产权的12英寸和8英寸CMP设备，和硅、非金属介质、金属薄膜等CMP成套工艺，满足了不同客户的工艺需求;并与下游的中芯国际、长江存储、华虹集团、英特尔、长鑫存储、厦门联芯、广州粤芯、上海积塔等国际知名客户合作，形成了良好的市场口碑。

云程发轫，万里可期。公司方面表示，未来华海清科将坚持以集成电路产业需求为导向，以自主研发与产业化应用为关键突破口，立足国内、面向全球，努力提升在全球集成电路装备领域的市场份额和品牌影響力，进一步向国际知名的集成电路高端装备及技术服务供应商进军。预计在行业需求增长和科技赋能的加持下，公司的长期发展将值得期待。