黑磷二维材料制备及其光电子器件研究进展
2021-11-22李国辉樊晓鹏崔艳霞
发光学报 2021年11期
冯 凯, 冯 琳, 李国辉, 温 荣, 冀 婷, 薛 林, 樊晓鹏, 崔艳霞
(太原理工大学 物理与光电工程学院, 山西 太原 030024)
1 引 言
半个多世纪以来,基于硅的场效应晶体管一直是半导体电子工业的主力。根据摩尔定律预测,现代基于硅的场效应晶体管的尺寸将继续呈指数级缩小[1-2]。与此同时,硅等传统半导体材料随着尺寸的减小,会出现热效应、尺寸效应与短沟道效应等现象,导致器件性能下降甚至失效[3-4]。为了解决这些问题,研究者们一方面通过优化电子器件的结构提升器件性能,另一方面寻找新的材料来代替传统半导体材料[5-6]。二维材料具有类薄膜的宏观维度,以及量子效应带来的高载流子迁移率、理想的带隙、优异的光学与电学性能等,有助于实现半导体器件的大规模集成,为后摩尔时代器件的制备与集成电路的设计开辟了新的道路[7-8]。
石墨烯作为二维材料的代表,虽然具有较高的电子迁移率,但是石墨烯本身是零带隙,具有类似金属的特性[9-11]。以二硫化钼(MoS2)[12-13]、二硒化钼(MoSe2)[14]为代表的过渡金属硫化物二维材料,具有类似半导体的能级结构,但是其载流子迁移率较低,限制了它们在光电子器件中的应用[15-6]。此外,已报道的二维材料多为n型半导体[17-19],而实际中构建pn结型光电子器件必须使用p型二维材料。黑磷(BP)作为一种p型二维材料,其独特的能带结构和光电性能赢得了研究人员的广泛关注[20-27]。
黑磷是磷单质中最稳定的一种同素异形体,与石墨烯类似,其晶体具有二维层状结构,层与层之间通过弱范德瓦尔斯力相互作用。……
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