单根磷掺杂β-Ga2O3微米线日盲紫外探测器性能
2021-11-18冯秋菊解金珠董增杰梁红伟
冯秋菊, 解金珠, 董增杰, 高 冲, 梁 硕, 刘 玮, 梁红伟
(1. 辽宁师范大学 物理与电子技术学院, 辽宁 大连 116029; 2. 大连理工大学 微电子学院, 辽宁 大连 116024)
1 引 言
近年来,日盲紫外探测器因其背景干扰弱、错误预警率低,有望应用于各种军事、生物、医学和民用领域[1,2]。宽带隙半导体材料被认为是制备日盲紫外探测器的热门选择,据文献报道,可制作紫外探测器的宽禁带半导体材料有许多种,如AlGaN、ZnMgO、金刚石和β-Ga2O3等[3-6]。其中AlGaN和MgZnO都是三元合金材料,需要通过调控高Al或Mg组分才能实现AlGaN和MgZnO材料对日盲紫外光敏感,外延工艺较复杂[7-8]。金刚石具有5.5 eV的带隙,对应波长225 nm,仅占日盲紫外波段的一小部分。因而带隙为4.9 eV的Ⅲ-Ⅵ族β-Ga2O3,由于其截止波长约为250 nm、吸收系数大等特点,成为一种很有前途的日盲紫外探测器材料[9-10]。此外,β-Ga2O3材料击穿电场高达8 MV/cm,也是制作功率元件的理想材料[11],并且它还拥有较高的热稳定性和化学稳定性,在环境和爆炸物气体传感器等领域也有很好的应用前景[12]。
目前,研究人员在对β-Ga2O3材料的研究中发现,通过掺入Si、Sn等杂质可以改善材料的电学特性,并且可以调节材料的带隙。2013年,Sasaki 等[13]在单晶β-Ga2O3中由于非故意掺杂导致Si离子注入,当β-Ga2O3中Si离子浓度为5×1019cm-3时,材料的电阻率和器件的接触电阻分别可达到1.4 mΩ·cm和 4.6×10-6Ω·cm2,大大改善了β-Ga2O3的电学特性。2015年,Mi等[14]使用MOCVD法在MgO(100)衬底上生长出Sn掺杂β-Ga2O3薄膜,研究发现未掺杂的β-Ga2O3薄膜电阻率为2.4×109Ω·cm,掺入Sn后,薄膜电阻率下降至1.2×104Ω·cm,降低了约5个数量级。此外,还发现当Sn掺杂量达到20%时,β-Ga2O3薄膜的光学带隙由本征材料的约4.9 eV降低至4.58 eV,由此可见杂质Sn的引入还可以有效地调节β-Ga2O3材料的带隙值,增大了对日盲紫外波段的覆盖率。……
