ITO镀膜工艺对LED器件光电性能的影响
2021-10-14吴滢滢
科技创新与应用 2021年28期
吴滢滢
(厦门三安光电科技有限公司,福建 厦门 361009)
氧化铟锡(ITO)导电膜主要是一种氧化铟和氧化锡根据不同比例组成的复合薄膜,作为透明导电膜,它将金属的导电性与晶体的透光性有效地结合在一起,根据不同比例不同工艺的调试,在各种平板显示器件、太阳能电池、电致变色功能膜、红外遥感探测等领域,都获得广泛应用[1-2]。现在ITO薄膜的开发和应用发展速度很快,制备方法有很多,常见的制备方法有热喷涂法、电子束蒸镀膜法、磁控溅射镀膜法和化学气相沉积法等。以第三代半导体GaN为主的发光二极管由于光电转换效率高,目前白光可以实现120lm/W以上的光效,根据材料的带隙可以进行不同波长的调节,而且具有环保(无汞污染)、固体发光、体积小可以集成应用等特点,目前已经在照明、显示、农业生产和生物医疗等领域得到广泛应用。此类型发光器件在光效、使用寿命等方面均已有可观的进步,有希望成为新一代照明及发光器件主流。在发光二极管芯片制作工艺中,电子束蒸发镀膜法和磁控溅射法是最常用的两种方法,由于磁控溅射镀膜方法制作的ITO薄膜具有较优光电参数性能,目前已经有逐渐取代电子束蒸发镀膜法的趋势。
1 实验
利用MOCVD机台K456I,在两寸蓝宝石衬底上生长蓝光LED外延结构,分别生长GaN缓冲层,N型层n-GaN,5对量子阱InGaN/GaN,电子阻挡层AlGaN和P型层p-GaN。并进行发光二极管的芯片制作,在ITO镀膜前用有机清洗液去除外延片表面的油污等有机物,利用强酸溶液去除外延片表面的金属氧化物等。……
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