李瑛娟，滕 瑜，宋群玲，杨志鸿,蔡川雄，张金梁

(昆明冶金高等专科学校冶金与矿业学院，云南 昆明 650033)

锆钛酸铅Pb(Zr1-xTix)O3(PZT)是典型钙钛矿结构的陶瓷材料，具有优异的介电、铁电、压电、热释电等性能，可广泛应用于电子学、集成光学以及微机电系统[1-2]等领域。随着信息技术的不断发展，PZT陶瓷逐渐向高精度、微细化及多功能化方向发展。锆钛酸铅Pb(Zr1-xTix)O3(PZT)具有非致冷、易于与半导体技术集成的优异特点，是作为微机电系统(MEMS)和非挥发性铁电随机存储器(FERAM)[3-4]的优质材料，PZT材料的压电和铁电性能、器件方面的应用一直以来受到很多研究者的关注[5-19]。脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition，PLD)是一种常用的镀膜方法，它是将准分子激光器产生的高功率脉冲激光汇聚到靶材表面，使靶材表面高温熔化气化，从而产生等离子体，等离子体会定向局域膨胀，在采用的衬底上进行沉积，重新排列形成薄膜。采用PLD镀膜时，所需的沉积温度低，薄膜成分与靶材成分基本一致，可用来制备不同组分的PZT薄膜。采用PLD法镀膜，最后可得到单晶或具有择优取向的薄膜，比随机取向的薄膜更有优势，应用更广，受到了很多科研工作者的青睐。

1 实 验

脉冲激光沉积系统的构成主要包括激光器、光路系统(会聚透镜和石英窗口等)、沉积系统(镀膜腔、靶材、真空系统、充气系统和加热硅板等)和辅助系统(测温装置、监控装置和电机冷却部分等)，如图1所示[20]。

图1 脉冲激光沉积系统示意图Fig.1 Schematic diagram of pulsed laser deposition system

采用的脉冲激光沉积薄膜参数如表1所示。

表1 脉冲……