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等离子清洗的工艺探究

2021-08-18王春生叶荣坤李志胜

山西电子技术 2021年4期
关键词:效果

王春生,叶荣坤,李志胜

(燕山大学,河北 秦皇岛 066012)

0 引言

等离子体清洗是利用等离子体中的高能粒子和活性粒子,通过轰击或活化反应作用将金属表面污物去除的过程[1]。等离子体清洗的过程不使用化学试剂,不会造成二次污染;清洗设备可重复性强,所需设备和运行成本比较低,而且操作灵活简单,可以实现对金属表面的整体或某些局部及复杂结构的清洗,有些经过等离子体清洗后的表面性能还可以得到改善,等离子清洗在微电子工业、半导体业等高科技领域的应用将会越来越广泛。

1 传统清洗方法的讨论

传统清洗方法主要分为两个大类:一种为湿法清洗另一种是干法清洗。其中湿法清洗是指需要液体作为清洗媒介的方法。湿法清洗中一般包括蒸汽清洗,溶液浸泡清洗和旋转喷淋清洗。但由于湿法清洗一般都需要引入新的杂质同时需要除锈所以一般不用在钢铁清洗上。干法清洗是以压力或抽吸的手段达到清洗污染物的目的,或是在气体媒介中进行清洗的方法为干法清洗[2]。由于湿法清洗不能精确控制,而且清洗不彻底,同时还会引入新的杂质,所以近年来干法清洗快速发展起来。干法清洗中一般包括机械清洗,超声波清洗,干冰清洗和等离子体清洗。机械清洗相对于其他几种清洗方式而言效率较低,成本较高。超声波清洗一般配合溶液联合使用。而干冰清洗因为干冰的制作成本以及不可重复性所以也不可能应用于大规模的钢铁清洗行业。……

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