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Ga对在AlN衬底上直接生长石墨烯的远程催化

2021-07-11李清波

高等学校化学学报 2021年7期
关键词:生长

柳 扬,李清波,孙 杰,赵 显

(1.山东大学光学高等研究中心,激光与红外系统集成技术教育部重点实验室,青岛266237;2.齐鲁工业大学(山东省科学院)电子信息工程学院,济南250353)

氮化铝(AlN)因具有宽禁带、高击穿电场、低能耗、耐高温、抗腐蚀及抗辐射等优点,是制备各种发光二极管(LED)和短波长激光器件的重要材料之一[1~4],也是节能产业、尖端军事和空间用电子器件的核心,因而备受关注.该类光电器件的一个技术难点是p-AlN的掺杂非常困难,目前主要通过Mg掺杂和激活实现[5,6],这导致AlN层的电阻率偏大,妨碍了载流子有效注入到整个源区,活性区域仅限于电极附近,而且在AlN上制作欧姆接触电极也较为困难.为有效扩展电流,降低正向工作电压,同时不影响正面输出,需在AlN上附加透明导电层,即透明电极.目前,应用最广泛且技术最成熟的透明电极材料是氧化铟锡(ITO),但铟元素在地壳中储量稀少,提炼难度大,成本高,铟资源已经被我国列入禁止出口的战略资源,ITO薄膜的产量已不能满足半导体器件市场的巨大需求;ITO在紫外波段有较强吸收,不宜作为短波长光电器件的透明电极;ITO薄膜柔韧性、耐环境酸碱度和抗老化性差.基于以上问题,寻找ITO的替代材料成为当前研究的热点之一.

石墨烯具有导电性好[7]、透光率高[8](单层石墨烯在可见光至近红外波段透光率理论值为97.7%,在紫外波段透光率也超过90%)、半金属性[9]、功函可调[10]、化学性质稳定、柔韧性好[11]等特点,因此成为首选的最……

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