王晓奇，曹 慧，雷 彪

（1.内蒙古机电职业技术学院机电工程系，内蒙古呼和浩特010070；2.内蒙古机电职业技术学院冶金与材料工程系，内蒙古呼和浩特010070）

镁合金的密度约为1.8 g/cm3，比强度、比弹性模量大，地壳中含量丰富，承受冲击载荷的能力比铝合金大，而且抗电磁干扰，铸造性能、耐凹性和加工性能良好，较大规模的应用在航空航天、生物医学、汽车、数码产品等领域［1‐5］。然而，由于Mg化学性质活泼，镁合金在应用中极易发生腐蚀，消耗资源，增加成本。镀膜技术可在不削弱镁合金原有优点的同时提高镁合金的性能，例如TiAlN薄膜具有硬度高、耐高温、耐腐蚀等优点［6‐7］。目前，多种镀膜技术被用于制备高性能的TiAlN薄膜。曹慧等［6］采用射频磁控溅射在AZ31表面制备了TiAlN薄膜，研究了基体负偏压对薄膜微观结构和耐蚀性能的影响，结果表明薄膜具有良好的耐蚀性能，并且45 V负偏压下薄膜的耐蚀性能最佳；Quesada F等［8］采用射频磁控溅射在ASTM A36钢上制备了TiAlN涂层，并研究了N2分压对涂层结构和性能的影响，结果表明N2分压0.1时涂层的均匀性较高、硬度最大、耐蚀和耐磨性能最好，而N2分压0.05时涂层的结合性能最好；周磊等［9］采用阴极电弧离子镀方法制备了Al0.55Ti0.45N基和Al0.67Ti0.33N基复合涂层，研究了涂层在3.5%NaCl溶液中的电化学腐蚀行为，结果表明涂层对基体有较好的保护作用；Wu G S［10］等采用磁控溅射法在AZ31上制备了双层的TiAlN/TiAl膜，结果表明双层膜在3.5%NaCl溶液中耐蚀性能良好。可见，镀层后的基体具有优异的防腐蚀能力。为了比较不同镁合金基体上同种薄膜结构和性能的差异，本文以Al3Zn1Mg、Al6Zn1Mg和Al6Zn1Mg1.5Ce为基体，采用电弧离子镀的方法制备了TiAlN薄膜，研究了不同镀膜基体的结构和性能。……