低功率MPCVD制备金刚石薄膜
2021-05-25朱海丰王艳坤丁文明梁林达
金刚石与磨料磨具工程 2021年2期
朱海丰, 王艳坤, 丁文明, 梁林达
(1. 中国石油大学(华东) 理学院, 山东 青岛 266580) (2. 中国石油大学(华东) 材料科学与工程学院, 山东 青岛 266580)
金刚石是自然界最坚硬的材料之一,具有高硬度、高耐磨性、极强的化学稳定性等优点,在科学研究和工业领域具有广阔的应用前景[1]。但天然金刚石的稀有性导致其价格昂贵,人工制备金刚石的技术研究一直在不断发展中。近些年出现的化学气相沉积技术(CVD)是一个极具前景的研究热点。CVD法就是通过在高温下分解含碳物质,如丙酮,甲烷等,在特定的条件下,于衬底上沉积得到金刚石薄膜。CVD法制备得到的金刚石晶粒尺寸和晶体形状最接近于天然金刚石,且性能优良[2-4]。
目前,沉积金刚石薄膜的主流方法还有微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)[5]。其优越性在于利用微波能量激发反应气体,没有内部电极,等离子体密度高,电子动力学温度和密度也高[6-7]:一方面可避免放电污染;另一方面放电区集中而不扩展,输入高功率微波可获得大体积高密度的等离子体球,从而快速地沉积出高质量的金刚石薄膜[8]。
WENG等[9]采用MPCVD法在硅基板上沉积高质量且均匀的金刚石薄膜,并研究微波功率及氢气流量对薄膜的影响。GAUTAMA等[10]以液相微波等离子体化学气相法,将金刚石薄膜沉积到硅、铜及铁基板上,并分析碳扩散对其金刚石薄膜表面的影响。YANG等[11]通过无氢气气氛的新策略采用MPCVD法在硅基板上生长金刚石薄膜,对金刚石薄膜的表面粗糙度进行了研究,并探究金刚石薄膜的合成机理。……
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