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《电子工业专用设备》第 50 卷(2021)目次总汇编

2021-03-31

电子工业专用设备 2021年6期
关键词:设备设计研究

趋势与展望

AlN 单晶衬底的制备及研究进展..............................................................................................................齐志华3-1

时尚预测对产业装备设计的辅助作用研究..................................................................孙 斐,陆定邦,崔成强5-1

浅谈我国智能制造的发展建议..................................................................................................................柯建波6-1

半导体制造工艺与设备

接触/接近式光刻UV-LED 光源测试分析与工艺研究........................................陈 威,党景涛,王 河,等1-1

碲锌镉晶片双面磨抛加工表面损伤层研究..................................................................张文斌,郭 东,葛劢翀1-5

液相外延设备温度控制系统研究............................................................................李 瑫,程文进,黄志海,等1-8

低温探针台液氮管路保冷设计与应力分析................................................................贾月明,刘路宽,高 岳1-12

基于模糊PID 控制的晶圆精密磨削控制系统.......................................................杨生荣,王克江,白 阳,等2-1

线形同轴耦合微波等离子体系统仿真研究............................................................彭宜昌,吴易龙,徐 伟,等2-5

磁控溅射台镀膜形貌及均匀性改善研究.....................................................................解 晗,张春胜,申 强2-8

基于双频电源的PECVD 沉积设备设计与仿真...................................................龙长林,周立平,陈国钦,等2-12

离子注入机分析器模型的自动调束控制方法............................................................孙 勇,钟新华,杨亚兵2-15

基于仿真分析的设备微环境控制技术....................................................................杨 师,史 霄,杨元元,等3-8

基于数字孪生的设备预测性维护模式研究...........................................................................................张 蕾3-12

CMP 干燥模组控制软件设计................................................................................杨 旭,杨元元,王嘉琪,等3-16

自动称重系统在全自动硅片上下料机的应用........................................................................................剌颖乾3-21

锗片表面钝化探究进展................................................................................................杨 静,韩焕鹏,张伟才4-27

晶片双面磨抛压力控制系统的研究.....................................................................孙莉莉,韦 薇,张争光,等4-31

离子束溅射沉积设备制备薄膜均匀性研究.........................................................陈国钦,袁祖浩,胡 凡,等4-35

气态氟化氢释放系统..................................................................................................................................庞克俭5-7

自动化离子注入设备控制系统的研究与设计............................................................周 波,佘鹏程,罗 超5-11

MOCVD 设备射频感……

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