GaN HEMT 器件封装技术研究进展*
2021-03-22周德金陈珍海宁仁霞吴伟东
电子与封装 2021年2期
关键词:结构
鲍 婕,周德金,陈珍海,宁仁霞,吴伟东,黄 伟
(1.黄山学院智能微系统安徽省工程技术研究中心,安徽黄山 245041;2.多伦多大学电气与计算机工程学院,加拿大多伦多 M5S3G4;3.复旦大学微电子学院,上海 200443;4.清华大学无锡应用技术研究院,江苏无锡 214072)
1 引言
氮化镓(GaN)功率半导体器件由于自身宽禁带半导体材料的特性优势,很多性能超越传统硅基功率器件,在高频、高效转换器中具有很强的应用优势[1-3]。基于其独特的异质结构和二维电子气开发出的高电子迁移率晶体管(HEMT),以更小的芯片尺寸来实现需要的电流容量,具有高击穿强度、低导通电阻和更快的开关速度[4],非常适合中低压和中小功率系统,如旅行适配器、无线充电器、交直流转换器、智能家电等,目前在600~650 V 击穿电压等级的高频转换器中最具吸引力[5]。随着硅上GaN 技术的快速发展,具有潜在价格优势的GaN HEMT 器件,势必会在光伏逆变器、能量储存系统、电动车辆等工业领域中得到广泛应用。
为了充分发挥宽禁带半导体特性优势,除器件内部结构设计及加工工艺以外,GaN HEMT 器件的封装已经成为重要的限制因素。击穿电压较高的功率器件需要在封装中配备额外的电绝缘结构,会引发更高的传导损耗,这就意味着封装结构更加复杂,同时在热管理和高速转换二者之间要寻求平衡,才能实现封装对于GaN 裸芯片电学及热学性能的影响最小,使其能够与硅技术形成竞争。本文对耗尽型、增强型GaN HEMT、GaN 智能功率模块的典型封装结构以及寄生电感、热管理等封装关键技术问题的研究现状进行了综述,并对二维材料石墨烯在GaN HEMT 器件热管理中的应用研究现状进行了分析和讨论。……
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