光掩膜版用低羟基高纯石英玻璃的研究
2021-03-22陈娅丽吴椿烽钱宜刚汤明明陈京京顾铃铃缪丽华
玻璃 2021年3期
关键词:工艺
陈娅丽 吴椿烽 钱宜刚 汤明明 陈京京 顾铃铃 缪丽华
(中天科技精密材料有限公司 南通 226009)
0 引言
石英玻璃是由二氧化硅单一组分所构成的工业用技术玻璃,拥有一系列特殊的物理和化学性能。它具有优良的耐高温性能,热膨胀系数极小(5.5×10-7/℃),仅为陶瓷的1/6和普通玻璃的1/20[1-2];良好的热稳定性与热传导能力,以及具有高的介电场强度,很低的介电损失和导电性,可广泛适用于高压绝缘子材料;同时,它在整个光谱内具有良好的透过率(T157-4000nm≥80%),尤其在紫外和深紫外光谱范围内的透过性能是一般光学玻璃所不具备的[3-4]。由于其优异的理化性能,因而被应用于光学、光通讯、航空航天、半导体集成电路等高技术领域[5-6]。随着高端光电技术领域对高纯石英玻璃的要求不断提高,本文在介绍一步法工艺特点的同时,也提出了两步法工艺及产品性能,从而实现更高品质石英玻璃的制备,满足高端光电市场的应用需求。
1 “一步法”石英玻璃制备工艺
1.1 石英砂制备
石英砂是一种非常普遍的原材料,目前主要有电熔、气炼、等离子工艺进行制备。将石英砂经过1 800 ℃以上高温或者在等离子火焰下均匀熔化,形成一定尺寸规格的石英砣坯。其中,电熔工艺是以电为动力,通过电阻、电弧、中频感应等方式加热,熔融制备,羟基含量一般在30×10-6以内;气炼工艺则采用氢氧焰熔制石英而得,相比电熔工艺,气炼工艺生产中会引入羟基和水分,因此所制备的石英玻璃中羟基含量高达200×10-6以上。……
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