杨江涛，王健安，王 银，胡 啸

（太原科技大学 电子信息工程学院，山西 太原030024）

0 引言

由两条金属线通过溅射的方式形成了一组窄缝，这组窄缝的距离小于入射光的波长，这就形成了亚波长金属光栅偏振器，它的体积属于纳米级别，但其偏振性能却非常好且容易集成，因此它被广泛应用于光通讯及液晶显示屏的制造中。其中双层金属纳米光栅偏振器属于纳米光栅偏振器件中的一种，由于其偏振效果更好得到人们的青睐。

纳米压印光刻技术在1995年首次由美国人提出[1]，是近20年才发展起来的新型的微细加工工艺，它是利用高分辨率的模板来复制加工微纳结构的一种新工艺，所以可以说这种技术首先建立在光刻技术上。第一个提出亚波长金属光栅具有检偏的偏振特性的是Hertz 教授[2-3]，随后才相继出现了有关亚波长金属光栅相关理论及其制造方法。2005年，韩国LG 电子研究院利用周期140 nm 的硅基亚波长光栅作为压印模板制作了单层金属偏振光栅。2006年瑞士保罗谢尔研究所[4-5]在石英板上通过极紫外干涉光刻技术制备了周期为100 nm 的亚波长光栅。随后几年，美国密歇根大学[6-7]开发一种可以连续制备周期为200 nm 的亚波长结构的亚波长光栅，利用电子束在光栅上方沉积一层金属铝，经过测量其消光比为1000。这种压印技术在当时被认为是未来制备亚波长金属光栅的有效方法[8]。但是随着社会的快速发展，越来越多的曲面屏及可折叠屏成为了人们生活的主流[9-10]，这就让人不得不往柔性偏振器上思考。……