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N型晶硅电池硼源扩散技术研究进展

2020-02-04王冬冬杨超张敏李得银

电子技术与软件工程 2020年12期
关键词:发射极硅片丝网

王冬冬 杨超 张敏 李得银

(黄河水电光伏产业技术有限公司 青海省西宁市 810800)

扩散[1]是制备太阳能电池PN 结的核心。扩散分为恒定表面源扩散和限定表面源扩散[2-3]。理想状态下,恒定表面源扩散表面浓度保持恒定不变,与扩散时间无关;限定表面源扩散在扩散温度一定情况下,随着扩散时间的增加,其表面浓度逐渐下降,但杂质总量保持恒定。硼扩散具有三种方式:三溴化硼高温扩散、丝网印刷掺硼浆料及热扩散推进、旋涂硼源及激光掺杂推进。

1 三溴化硼高温扩散的方式

三溴化硼(BBr3)在常温下是一种无色或略带黄色的液体,具较强烈的刺激性,其形成的蒸汽有剧毒。是半导体硅的掺杂源,更是N 型晶硅太阳电池制备高质量PN 结的重要手段。其液态的BBr3 通过氮气携带的方式在管式扩散炉内高温扩散形成高质量的PN 结,该方法能够保持高的有效寿命,且具有低发射极的饱和电流密度。

如图1 所示,N2通过BBr3容器,从而携带着扩散源进入到炉体中。扩散源、氧气、氮气在炉体内均匀地扩散开来,并发生反应生成氧化硼(B2O3),反应式如下:

随着沉积温度的增加,O2、B2O3、Br2通过边界向硅表面进行扩散,形成二氧化硅层,而B2O3熔入二氧化硅中形成硼硅玻璃,反应式如下:

副产物通过氮气携带和酸排管道排到尾气处理塔处理。

张婷等[4]公开了一种硼扩散方法,该方法将制绒后的硅片通过高温推进的方式得到P+发射极,使用强酸(HF)去除硅片表面的硼硅玻璃,再将硅片放入NaOH 溶液中反应一定时间使硅片方阻提升8-20ohm/sq,然后通过HF 和HCl 的混合溶液去除金属离子和背面氧化层。不仅提升了表面方阻、降低了PN 结结深,而且通过浅腐蚀方式消除了低浓度表面,有效地解决了N 型晶硅电池在硼源扩散后表面浓度低的情况。袁广锋等[5]采用低温沉积高温推进的方式,通过调节沉积时间、扩散时间及温度、气源流量等影响参数,提供了一种硼源扩散方法,该方法分为三个步骤进行硼源扩散,即沉积阶段、扩散阶段、后氧化阶段。不仅改善了方阻均匀性,降低了液态硼源的消耗,而且提升了电池的光电转换效率。

图1:三溴化硼高温扩散图

赵建华等[6]公开了一种N 型电池硼扩散的新方法,该方法特点是在N 型晶硅太阳电池背面进行硼扩散制备P 型发射极,并生长氧化层,在正面又进行磷扩散,沉积氮化硅减反射层。在进行三溴化硼高温扩散时,其恒温区温度在800-1000,扩散时间15 至50 分钟之间,结深控制在0.5-5 微米。

通常硼源扩散分两步:

(1)预扩散,即炉管达到扩散温度后氮气携带液态源进入到炉管,并通入氧气,在硅片表面形成一定的杂质源,预先达到一定的扩散浓度;

(2)热推进,即停止硼源的通入,升高扩散温度,对沉积在硅片表面的杂质源进行推进扩散,形成一定的结深。该方法使得硅片表面到内部的硼原子浓度逐渐降低,高浓度区域可能产生俄歇复合,同时因硅原子晶格发生畸变可能诱使大量缺陷,这些缺陷也可能产生复合从而降低少子寿命,影响电池转换效率。针对上述缺陷,殷涵玉等[7]开发了一种高低浓度硼扩散方法,减少了较深范围扩散层的杂质浓度,降低了俄歇复合,提升了少子寿命,从而提升了电池的性能。龙腾江[8]等研究了湿法去除硼扩散后硅片表面形成的富硼层,使得开路电压从610mV 增加到625mV,反向饱和电流密度明显降低,少子寿命增加近3 倍。

2 丝网印刷掺硼浆料及热推进(或激光推进)的方式

丝网印刷和掺杂技术是制备太阳电池重要步骤,将精心配制的掺杂浆料通过丝网印刷机印刷在太阳电池表面,制备发射极,是一种新型的掺杂方法。Nüssl 等[9]就是利用丝网印刷技术在本征硅表面印刷掺硼浆料,烘干后通过高温扩散退火,制备硼发射极,在未沉积减反射薄膜的情况下得到了填充因子超过77.5%,开路电压超过605mV,短路电流密度超过30mA/cm2,转换效率超过14%的太阳电池。

刘国钧等[10]公开了一种纳米硅硼浆及其应用于制备N 型复合发射极的方法,该方法以纳米硼浆为载体,针对电池背面银铝覆盖区不连续的缺陷,采用全覆盖或者局部覆盖的方式在背面进行纳米硼浆的印刷,将其烘干后通过激光或者高温热推进的方式处理,形成背面局部掺杂,从而与背面铝发射极形成复合发射极弥补不连续缺陷。

洪捐等[11]将印刷烘干后的硅片利用皮秒激光在一定功率下进行熔覆硅浆料。利用该工艺制备的SP-PERC 电池的转换效率达20.3%,比同期PERC 电池转换效率提升了0.3%,填充因子提高了0.6%。

3 旋涂浆料及热推进(或激光推进)的方式

旋涂法因具有薄膜精度可控、性价比优良、操作简单等优点,常用来制备不同的功能薄膜,在光学、微电子学、医学、生物学等领域有着广泛的应用。基于旋涂法的优点,近年来研究者将该方法运用于光伏领域,将掺硼浆料通过旋涂的方法均匀旋涂在硅基底上,在一定温度下烘干,然后利用高温热推进或激光推进的方式,实现硼掺杂。

洪捐等[12]将SiO2 制备成350~450nm 的球形颗粒浆料,以硼酸溶液作为硼源,以一定比例配制成纳米硼浆,利用旋涂法均匀旋涂在电池片表面,通过热推进的方法实现硼掺杂;实验表明,SiO2颗粒粒径越小,其扩散后均匀性越好。

刘畅[13]通过建立模型计算了旋涂后经过激光和热处理退火得到的PN 结中杂质的分布,并设计了制备工艺,通过实验验证得到了符合预期的性能器件。证明了旋涂掺杂与热处理或激光退火方法的可行性。桑雪岗通过旋涂浆料及热推进的方式分别从扩散温度、扩散时间和气体流量等方面研究了N 型双面电池的电性能及背面扩散工艺;研究表明,随着扩散温度、时间的增加,电池正面开路电压Voc 减小,短路电流Isc 呈现先增大后减小的趋势;气体流量加大,其电池正面开路电压Voc、短路电流Isc 均降低。

4 结论

BBr3高温扩散的方式是产线应用最广、最成熟的方法。扩散工艺均采用先预扩散后热推进的模式,只是在扩散时间、扩散温度和气体流量的控制上有所不同,在后续清洗工艺有所差别。

丝网印刷和旋涂浆料及热推进(或激光推进)两种方式具有操作简单,低成本、与传统工艺匹配度强等优势,由于纳米硼浆性能较低、方阻均匀性较差等原因目前停留在实验阶段,并未产业化。

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