一种新型的GPP硅片氧化层去除方法探究
2019-10-21陈宏胤杨莎
科学与信息化 2019年28期
陈宏胤 杨莎

摘 要 本文发明了一种玻璃烧结后的GPP硅片氧化层的新型处理方法,包括:取烧结后的硅片,在混合酸溶液中处理4~10min,流动水冲洗14~16min,超声波超声清洗180~300min。本方法在不破坏玻璃的前提下快速的去除氧化层,使硅片镍层更加均匀,产品质量更加稳定,提升了机械良率,缩短了生产周期,降低了生产成本。
关键词 玻璃烧结;去除氧化层;玻璃
序言
目前市场上GPP硅片玻璃烧结后去氧化层的方式是利用喷砂机去除硅片烧结后的氧化层,此方式操作效率很低且喷砂时的压力对硅片造成机械损伤,喷砂机喷砂时喷枪的出砂量很难均匀的控制,导致氧化层去除不均匀,玻璃容易被破坏,喷完砂的硅片镀镍前清洗清洗方式比较复杂。我们对GPP硅片玻璃烧结后去氧化层的方式进行了改进,在硅片制作过程中采用了混合酸溶液代替喷砂机去除烧结后硅片的氧化层,对硅片的损伤很小,提升了硅片的机械良率,氧化层去除均匀,效率高,镀镍前清洗简单,生产周期短,生产成本低。此方法使硅片镍层更加均匀,产品质量更加稳定,提升了机械良率,缩短了生产周期,降低了生产成本[1]。
1GPP硅片氧化层去除的新技术方案
新型技术方案如下:取GPP玻璃烧结后的硅片,将硅片放在铁氟龙花篮里,混酸槽中配制好混酸,將装有硅片的花篮放进混合酸溶液中处理4~10min,当时间到达规定时间后,将装有硅片的花篮拿出酸槽,放入第一级水中后迅速提起,硅片P面晶粒脱水合格后放入第二级水槽中冲洗14~16min。……
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