张 伟，陈小英，马永生，付婉霞，王 磊，周 贺，徐智俊，王 博，阮毅松

(1.福州京东方光电科技有限公司，福建 福州 350300;2.北京京东方传感技术有限公司，北京 100176)

1 引 言

未来，随着5G网络的到来，基于TFT-LCD面板的电子产品(电视机、显示器等)分辨率将逐步朝着4K、8K发展，显示尺寸大屏化将成为主流[1]。TFT-LCD玻璃基板尺寸已经发展到了10.5代线(3 370 mm×2 940 mm)，对于大玻璃基板而言，因为一个小缺陷而放弃整个显示屏幕对生产良率和成本而言是一个巨大的损失，因此缺陷维修极其重要。TFT-LCD面板主要存在冗余缺陷和开路缺陷，均可以通过激光技术维修。冗余缺陷即原本不应该有电路的位置存在冗余电路，开路缺陷即原本应该连接起来的电路位置却没有电路。通过脉冲激光的辐射烧蚀作用，可以轻易去除大部分冗余缺陷。但对于开路缺陷和部分冗余缺陷，需要在空气氛围中沉积额外的导电薄膜，维修工艺和过程复杂，难度很大。维修开路缺陷时，可以直接沉积导电薄膜将开路连接起来；部分冗余缺陷存在数据信号线和扫描信号线相连情况，若只是切除冗余缺陷会产生新的开路缺陷，因此需要切除冗余缺陷后再沉积导电薄膜将新产生的开路缺陷连接起来。通常而言，TFT-LCD面板缺陷非常小(常小于10 μm)，且发生在孤立的区域，需要在空气氛围下实现维修，普通的半导体沉积薄膜工艺不能直接用于缺陷维修。

LCVD是利用反应气体分子对特定波长的激光共振吸收，前驱体受到激光作用后发生解离的成膜方法。……