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浅析改良西门子法多晶硅用铸锭硅芯

2019-08-13李素青

中国金属通报 2019年7期
关键词:坩埚铸锭多晶硅

李素青

(有色金属技术经济研究院,北京100080)

1 概述

当今,能源日趋紧张,环境压力增大,世界各国都把目光投向了新能源领域,太阳能作为一种重要的可再生能源,其开发和利用已成为各国可持续发展战略的重要组成部分,光伏发电增长速率在世界各种能源增长速率中名列前茅。多晶硅因其原料来源广、生产效率高、生产规模大,已成为太阳能行业中的主导光伏材料。目前市面上的多晶硅大多采用改良西门子法生产的棒状多晶硅为主,以流化床技术生产的粒状多晶硅为辅。国内多晶硅生产采用的主流技术几乎都是改良西门子法,这种方法的优点是节能降耗显著、成本低、质量高,目前已占据了国内市场的80%以上。在改良西门子法生产多晶硅过程中,硅芯是作为还原炉中进行还原反应沉积(CVD)多晶硅的热载体,在还原反应结束后,硅沉积在硅芯周围,硅芯连同硅通过破碎一起作为多晶硅原料使用,因此,硅芯是作为多晶硅生产过程中非常重要的辅材使用和消耗的。

2 硅芯发展历史

还原炉中的硅芯就是“热载体”,也称“发热体”。热载体有两个作用:第一,沉积多晶硅的场所;第二,还原炉的热源,用于控制反应区的温度。也就是说,热载体既是还原反应的场所,又是还原反应所需能源的提供者,多晶硅的纯度与热载体密切相关,没有好的热载体,就不会生产出纯度合格的多晶硅。可以作为热载体的物质有多种,其中有被用于热载体历史的是钼、钨、钽、石墨、硅和石英玻璃六种。各类热载体的物理性能见表1。

表1 各类热载体的物理性能[1]

石墨虽然熔点高,但是结构较为疏松,容易污染硅棒,所以很少被采用。钨、钽价格较高,从经济成本考虑,不适合大量使用。石英玻璃虽然可以沉积硅,但由于其是绝缘材料,不易把电能变为热能,所以也很少被采用。综上所述,只有硅和钼是常用的热载体。由于高温下,钼向硅中扩散,对硅棒有一定的污染,增加了后续处理工艺及成本,而硅作为热载体时可以避免硅棒的污染,因此,硅最适宜作为热载体。

3 硅芯制备工艺

(1)吸管法

吸管法是最原始的硅芯制作方法,它是用细长的薄壁石英管作为模具,利用对石英管内抽真空的方法,将熔硅吸入石英管内,冷却后除去石英管,硅芯就制得。此法简单易行,但由于石英对硅芯有一定的污染,所以用此法制成的硅芯含氧量较高。

(2)区熔法

区熔法首先需要利用还原炉制备一定直径的沉积棒作为原料棒,然后将原料棒通过区熔工艺拉制成一定规格的圆形硅芯。区熔法又分为两种:水平区熔法和立式悬浮区熔法。区熔法的原理是利用热能在半导体棒料的一端产生一熔区,再熔接单晶籽晶。调节温度使熔区缓慢地向棒的另一端移动,通过整根棒料,生长成一根单晶,晶向与籽晶的相同。

(3)切割法

切割硅芯技术是通过切割沉积硅棒或者直拉硅棒获得方硅芯。该法使用专用的硅芯切割机,将高纯的多晶硅棒或单晶硅棒切成一定规格的细长方条,这种细长方条就是方硅芯。国内一般利用直拉炉拉制直拉硅棒,然后切割直拉硅棒获得切割硅芯,该方法制备的硅芯电阻率均匀性较差。目前国内已有硅芯生产厂家通过改进工艺和设备,自主研发了改良西门子法多晶硅用铸锭硅芯,解决了直拉硅芯电阻率头高尾低的问题,更有利于硅芯的击穿及致密料的生长。

4 改良西门子法多晶硅用铸锭硅芯的工艺流程、技术指标及影响因素

(1)工艺流程

图1 改良西门子法多晶硅用铸锭硅芯工艺流程图

方硅芯原料棒在生产过程中,前需要提前对各类配件进行安装和清洁,确保洁净度后,才能进行操作。生产出来的硅芯原料棒经方硅芯切割机切割成细长的方硅芯,方硅芯切割机的主要作用就是通过提前布好的两层线阵,将固定位置的多晶硅圆棒,一次切成一条一条的方硅芯。布置的线阵间距的大小,就决定了所切出的硅芯的尺寸。由于各多晶硅生产商的还原炉大小不一致,所需硅芯的长度及尺寸也不一致。由于硅芯的原料棒是圆形,靠近圆周部分的方硅芯,不完全符合正方形,一般作为边皮部分重新投入铸锭炉,再次生产新的硅芯原料棒。

(2)技术指标

硅芯锥头与横梁孔的配合精度要求较高,防止有电流通过时,接触不好的位置温度偏高,导致硅芯锥头变软甚至熔融,从而直接引起倒炉。由于硅芯尾部以插入石墨夹具的方式安装,一方面要保证硅芯插入夹具底部,与夹具下面的石墨座接触到,另一方面还要保证硅芯与夹具的口部紧密接触,防止因接触不好导致局部温度过高。硅芯安装后是直立于还原炉内,如果弯曲度过大的话,容易出现倒炉。基于上述原因,对改良西门子法多晶硅用铸锭硅芯产品的尺寸外形做了相应的规定。具体见表2。

表2 尺寸及外形

改良西门子法多晶硅用铸锭硅芯电阻率高、均匀性好,单个方锭产出硅芯单点电阻率提升到N型20Ω/cm以上,并且单支硅芯上所有点电阻率均匀性很好,具体电学性能及指标见表3。

表3 电学性能及成分

(3)影响硅芯质量的因素主要有以下几个方面:

①原料成分杂质。原料中三、五价杂质元素偏高是造成硅芯整体电阻率偏低的主要因素之一,通过严格控制原料中施受主杂质浓度,可以提升方锭硅芯电阻率,从而提升产品的质量。

②坩埚低扩散设计。坩埚是铸锭过程中必不可少的辅材之一,在铸锭过程中,熔体与坩埚长时间接触,坩埚中五价磷会扩散到熔融的硅液中,增加了硅芯方锭的杂质含量,降低电阻率。通过在坩埚内壁五面上均匀涂覆高纯度的涂层,形成致密的阻隔层,在铸锭过程中,有助于减少、隔离坩埚中的施主杂质扩散到坩埚中的硅液中,从而有效提高硅芯方锭的电阻率。

③铸锭工艺优化。铸锭过程中各个阶段杂质扩散的程度对硅芯方锭电阻率影响较大,通过优化铸锭过程中融化、长晶工序的时间,可以在保证产品质量的基础上,提升产品产能及电阻率。

④铸锭炉热场气流。通过对热场气流结构进行优化,充分带走硅熔体表面挥发出的杂质,并且实现长晶阶段的平推,提升整体电阻率及分布均匀性。

5 结语

方硅芯出现后,硅芯生产开始独立于多晶硅生产企业之外,国内硅芯生产厂家对硅芯的研究更加的专业化,对国外的空心方硅芯、方硅芯拼接、原生多晶直接切割等新技术也进行了更加深入的研究,硅芯生产技术的不断突破,不仅带动上游原材料行业的发展,也促进下游光伏等行业的技术进步,推动了整体产业的发展,促进了光伏产业的可持续发展。

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