李美萱,阚晓婷，王美娇，李 博

(1.长春理工大学光电信息学院，吉林 长春 130000；2.吉林工程技术师范学院 量子信息技术交叉学科研究院,吉林 长春 130052；3.吉林省量子信息技术工程实验室,吉林 长春 130052)

1 引 言

照明系统在浸没式光刻曝光系统中具有重要的作用,随着光刻分辨力不断提高,要求更短的波长和数值孔径不断增大,对照明系统的性能要求也不断提高。高质量的照明系统对提高整个光刻机的性能起着至关重要的作用,能够保证在光刻系统掩模面上具有高均匀性照明、控制曝光剂量以及实现不同照明模式。NA1.35浸没式光刻照明系统是超大规模集成电路的核心设备,ArF激光器发出的光束经过一系列模块传输后到达掩模面,其能量应该满足光刻曝光系统的要求[1-6]。在激光器与照明系统之间有一段传输光路,通过多个转折反射镜将激光束引入照明系统。现有的激光准直扩束设计方法比较多样,例如对于单波长激光采用变焦系统设计[7],对于多波长也采用了新型扩束结构设计[8-10]等。

对于NA1.35浸没式光刻照明系统的结构,由于其特殊结构的布局要求,即采用多个转折反射镜以实现激光光束束与照明系统准确对接,使激光器与照明系统的相对安装位置具有最大的灵活性[11]。其传输光路的最大长度为20 m,其间最多可以布置5个转折点。为了避免激光器工作时产生的振动和电磁辐射对光刻机主机的影响和光刻机对环境较高的要求,应该将激光器与照明系统,即光刻机主机长距离分开光束传输管道与光束扩束、稳定腔壁及光瞳整形系统腔壁密封相连,并充过压氮气,使光束传输过程稳定无污染。……