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共掺浓度对Na-Al共掺杂ZnO薄膜微观结构和光电性能的影响

2018-06-21陈义川胡跃辉胡克艳张效华帅伟强劳子轩

材料工程 2018年6期

陈义川,胡跃辉,胡克艳,张效华,童 帆,帅伟强,劳子轩

(景德镇陶瓷大学 机械电子工程学院,江西 景德镇 333403)

透明导电氧化物(Transparent Conductive Oxide, TCO)是一种很重要的宽带隙材料,通常被用于光电设备,特别是作为薄膜太阳能电池的导电层、背电极以及中间层,起到传输或反射作用[1-2]。ZnO是一种宽禁带的多功能Ⅱ-Ⅳ族氧化物半导体材料,其禁带宽度为3.37eV,常温下激子束缚能为60meV,其最稳定的结构是六角纤锌矿结构,在压电、光电、气敏、光敏等特性方面具有较强的优势。ZnO原料丰富、无毒、性能稳定,因此被广泛应用在液晶显示器等离子体显示面板、有机致发光和太阳能电池等半导体领域[1,3]。ZnO晶体的性质高度依赖于掺杂物,可以通过掺杂Li,Na,Mg,Al,Cu,W等元素来改善ZnO的电学、光学、压电等性能[4]。制备ZnO薄膜的方法很多,常见的有磁控溅射法[5-7]、溶胶-凝胶法[1,8-10]、脉冲激光沉积法[11-12]、金属有机化学气相沉积法[13]和水热法等[14-16]。其中溶胶-凝胶法要求设备简单,不需要昂贵的真空设备,后期维护费用低;制备ZnO薄膜的Zn源一般都来自Zn盐化合物,价格较便宜,从而使制作成本大幅度降低。同时,薄膜内掺杂浓度可精确控制,因此,溶胶-凝胶法颇受科研工作者和电子材料生产行业者重视。

Na和Zn有着不同的电子结构,但是离子半径相似(rNa+=95pm,rZn2+=75pm),通过第一性原理计算可知,Na+可以进入ZnO晶格与邻近的O空位结合[17]。Al作为ZnO研究领域常用的掺杂源,其离子(Al3+)进入ZnO晶格后,可产生大量的O空位和间隙离子,提高了薄膜内部载流子浓度。本工作以Na和Al元素作为掺杂元素,通过改变二者之间比例,研究不同Na-Al共掺杂浓度对ZnO薄膜结晶性能、表面形貌、光学性能和电学性能的影响。……

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