贺 晓，张利胜，祖恩东，杨晓云，董 鹍

1. 昆明理工大学材料科学与工程学院，云南 昆明 650093 2. 首都师范大学北京市纳米光电子学重点实验室，北京 100048 3. 昆明理工大学分析测试研究中心，云南 昆明 650093

Ca(1-x)Al2Si2O8∶Eux表面结构与荧光强度相互关系的研究

贺 晓1, 3，张利胜2，祖恩东1*，杨晓云3，董 鹍3

1. 昆明理工大学材料科学与工程学院，云南 昆明 650093 2. 首都师范大学北京市纳米光电子学重点实验室，北京 100048 3. 昆明理工大学分析测试研究中心，云南 昆明 650093

采用固相法分别在1 150，1 250，1 350，1 450 ℃下制备了Ca(1-x)Al2Si2O8∶Eux(x=0，0.01，0.05，0.15)系列微晶材料。通过X射线衍射仪(XRD)、拉曼光谱仪(Raman)、光致发光光谱仪(PL)和X射线荧光光谱仪(XRF)研究了CaAl2Si2O8表面结构与荧光强度之间的相互关系。XRD和Raman结果表明：在制备CaAl2Si2O8材料的过程中，随着温度不断升高，原材料逐渐结晶形成结构较为完整的CaAl2Si2O8相; 并且从拉曼光谱可以清晰看出，当Eu掺杂量相同时，随着烧结温度的升高，Si—O非晶相逐渐减少，硅氧四面体逐步形成，其振动峰位置逐渐向低波数移动，但当温度过高时硅氧四面体破坏形成宽化的的非晶峰；Eu的掺杂阻碍了Al取代Si位置的过程，因此在1 620波数处振动峰先增强后减弱。这种材料表面结构的变化与Eu的掺杂密切相关，影响着材料表面Eu原子数量分布。PL和XRF结果表明：相同Eu掺杂量时，温度越高越有利于Eu原子扩散到样品表面，从而使样品的荧光强度更强。因此样品的荧光强度和样品单位表面积Eu原子数量存在正比关系。

CaAl2Si2O8；拉曼光谱；硅(铝)氧四面体；X荧光光谱；荧光强度

引 言

CaAl2Si2O8属架状铝硅酸盐结构，其中硅(铝)氧四面体以公用角顶方式在三维空间连接成架状，Ca2+充填于骨干中的大空隙中，具有较高的化学稳定性和热稳定性，是一类优良的发光材料的基质，引起了研究者们的广泛关注[1]。……