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四甲基硅烷的高压拉曼散射研究*

2016-04-25秦振兴张建波

高压物理学报 2016年5期
关键词:实验

秦振兴,张建波

(1.太原科技大学物理系,山西太原 030024;2.华南理工大学物理系,广东广州 510641)

作为现代物理学中最具挑战性的课题之一,氢金属化的实现一直以来都是高压科技发展的源动力[1]。这是因为在足够高的压力(大于400 GPa)作用下,氢不仅会经历金属化过程,还可能是具有室温级超导转变温度的超导体[2-3]。百年超导发展历史中,高压下氢的研究丰富多彩。最近的实验研究[4-5]表明,加压至360 GPa时尚未发现氢实现金属化,仅呈半金属状态,而这一压力是目前静高压实验技术的上限。2004年Ashcroft[6]提出:由于其他元素对氢的“化学预压”作用,选择一些氢丰富的材料(统称富氢电子材料)代替氢,在现有的高压技术条件下将使氢金属化变得更易于实现。该方法很快被采纳,各种富氢电子材料不断涌现,其中第四主族元素的氢化物最受推崇。有研究表明,硅烷(SiH4)在60 GPa的压力下实现了金属化,在96~120 GPa获得17.5 K的超导转变温度[7-8];但是最近的实验研究却提出质疑,并证实该“金属化”源于高压下硅烷的分解产物与金属封垫化合而成的金属氢化物,而超导现象则源于硅烷的分解产物——氢在高压下与电极材料的化合产物PtH[9-11]。其他的XH4(X=C,Ge,Sn)或有同样的高压分解现象,或因剧毒较难开展高压研究。为此,富氢材料XH4(X=C,Si,Ge,Sn)失去了高压下氢金属化探索的优越性,选择合适的富氢电子材料成为研究高压下氢金属化的关键。

由于第四主族元素四甲基类材料的分子结构具有高对称性,因此自20世纪30年代其光谱特性就已被广泛研究[12-17]。……

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