黄静莉



简述光刻机投影物镜的几种减振方案

黄静莉

(上海机床厂有限公司 上海 200093)

振动是影响光刻机投影物镜动态稳定性的关键因素，决定了投影光刻机的主要性能。简述了消除或抑制投影物镜振动的两种方案，即一体式主动减振方案和采用压电陶瓷驱动的柔性支撑两级主动减振方案。通过在实际中应用表明，后一种减振方案可以实现亚微米甚至纳米级的定位精度及稳定性。

光刻机投影物镜压电陶瓷主动减振

在现代工业技术的发展中，高精度的设备越来越多地决定着各行各业的发展前景，特别是在半导体行业。随着大规模集成电路迅速发展的需求，提高集成电路的集成度成为发展的关键。提高集成电路集成度的途径之一是减小集成电路的体积，把每个晶体管元件做小。而微纳米光刻加工设备则是晶体管元件做小的关键，光刻的目的是把要制作的电路结构，包括半导体器件、隔离槽、接触孔、金属互连线等图形以物镜的比例复制到硅片表面的光敏光刻胶上，形成三维图像。

光刻投影曝光微纳米加工设备(即光刻机)是硅片制造的关键设备。其功能是将一整套集成电路永久的刻蚀在涂胶的硅片上，利用光学投影成像原理，通过投影物镜将掩膜版上的集成电路图形正确地光刻复制在硅片上，以做成半导体芯片。为此，光刻机被认为是大规模集成电路制造的核心设备，光刻技术则是集成电路制造工艺发展的动力。……