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CS2000装置二阶液位PID控制研究

2014-08-03姚明源

化工自动化及仪表 2014年6期
关键词:液位

王 婕 姚明源

(1.广州工程技术职业学院,广州 510725;2.广州拉斯卡工程咨询有限公司,广州 510305)

集散控制系统(DCS)是以微处理器为基础,综合运用4C技术,对生产过程进行集中监视、操作、管理和分散控制的一种计算机综合控制系统[1]。由浙江中控集团教学仪器有限公司开发的CS2000化工仪表维修工竞技实训装置,采用浙江中控技术股份有限公司的WebField JX-300XP DCS控制系统,被控参数包括了工业上常用的液位、温度、流量和压力四大参数,目前已经成为很多大中专院校使用的实验装置,并且成为全国职业技术院校技能大赛化工仪表自动化赛项的指定设备,其中的二阶双容液位控制成为竞赛取胜的关键。如何做好该液位的PID控制,更快、更好地整定出要求的性能指标,成为比赛的难点。笔者经过大量的实验,设计了二阶液位控制系统,并找到一种较好的PID整定方法,可以快速实现PID参数整定,使液位控制达到要求的性能指标。

1 CS2000过程控制实训装置简介①

CS2000实训装置包括控制台供电系统、实验对象及现场仪表系统等几部分,将水箱、锅炉及换热器等经典控制对象集成在同一设备上,与控制站、上位机构建成一个完整的DCS控制系统[2]。液位控制系统中包括一组有机玻璃三容水箱,每个水箱中装有液位传感器,可以实现上、中、下水箱一阶控制以及上、中水箱组合的二阶控制等方案。

1.1 CS2000装置硬件构成

1.1.1控制站

现场控制站由电源模块、主控卡(XP243)、数据转发卡(XP233)、I/O卡件、交换机及机柜等部分组成。……

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