韩小月，李晓华，赵建为，张云晖

（昆明冶研新材料股份有限公司， 云南 昆明 650031）

硅材料中磷含量的分析方法综述

韩小月，李晓华，赵建为，张云晖

（昆明冶研新材料股份有限公司， 云南 昆明 650031）

综述了近10年来硅材料中磷含量的分析方法，方法主要包括电感耦合等离子体原子发射光谱法、二次离子质谱法、X-射线荧光光谱法、分光光度法等，并对每一种方法的应用情况作了简要的评述。

硅；磷；分析；综述

含硅材料因其独特的性能而得到了广泛的应用，而磷作为含硅材料中的杂质，对硅材料的性能影响重大，因此，准确测量硅材料中的磷含量具有重要意义。而硅作为基体元素，对磷含量的分析存在一定的干扰。通过查阅文献得知，分析含硅材料中磷元素的方法主要有电感耦合等离子体原子发射光谱法、二次离子质谱法、X-射线荧光光谱法、分光光度法等，而关于硅材料中磷含量分析方法的综述还未见报导，作者就硅材料中磷含量的分析方法问题进行了系统的分析和综述。

1 电感耦合等离子体原子发射光谱法（ICP-AES/ICP-OES法）

ICP-AES法具有良好的检测限和分析精密度，是以等离子体为激发光源的原子光谱分析方法，可进行多元素的同时测定，进样方式为液体进样，所以，对于固体硅材料样品，分析过程中需要先将固体样品转化为液体样品再进样分析。由于含有硅基体，样品处理方法一般为氢氟酸加硝酸溶解样品，高氯酸冒烟挥发近干，再加盐酸溶解残渣。……