利用激光干涉的方法制备亚微米光栅结构图形衬底

2012-11-14北京景山学校高三4班陈光旭指导科学家陈弘

科技创新与品牌 2012年1期

关键词：结构

文/北京景山学校高三(4班) 陈光旭指导科学家/陈弘

利用激光干涉的方法制备亚微米光栅结构图形衬底

文/北京景山学校高三(4班) 陈光旭指导科学家/陈弘

纳米材料从20世纪80年代开始受到了人们的广泛关注，现已发展了纳米金属材料、纳米半导体薄膜、纳米陶瓷、纳米磁性材料和纳米生物医学材料等。其中纳米半导体薄膜材料的研究对半导体电子学、光子学有着非常重要的意义。图形衬底作为薄膜材料的一个重要分支，在制造半导体和磁性材料中有多方面的潜在的应用价值，在开发新型器件中有着重要作用。图形衬底中最基本的就是光栅结构，由于传统半导体紫外曝光技术受到光的衍射作用限制，不适用于制作亚微米光栅结构图形衬底，所以本人发明了利用激光干涉的方法制备亚微米光栅结构图形衬底。

到底什么是亚微米光栅结构图形衬底呢？它是指在光滑平整的抛光衬底面上刻蚀出具有几百纳米尺寸的周期性结构的衬底(如下图所示，条纹图形衬底和孔洞图形衬底)。亚微米光栅结构图形具有广阔的应用价值，科研上可用于规则生长纳米尺寸的点、线、柱等，研究半导体材料的量子限制效应，光子晶体的制作等；工业上可作为生长模板，生产高密度磁记录材料、光电子材料、电池电极材料、太阳能电池材料等。