周志华 傅明喜

江苏联合职业技术学院 无锡交通分院，江苏无锡 214151

工艺参数对Ti、NdFeB薄膜厚度的影响

周志华 傅明喜

江苏联合职业技术学院 无锡交通分院，江苏无锡 214151

本文采用磁控溅射法制备Ti、NdFeB薄膜，并研究分析了工艺参数对Ti薄膜及NdFeB磁性薄膜厚度的影响，这些工艺参数是溅射类型、溅射时间、基靶距。

薄膜; 厚度; 溅射时间; 基靶距

引言

近年来，各种NdFeB[1][2]磁性薄膜由于其优良的磁性能及资源优势，日益受到国内外的重视。为提高各种NdFeB磁性薄膜[3]的磁性能，在制备过程中通过工艺参数[4][5]的改进，可以改善薄膜的表面形态，其中厚度就是一项重要的指标。

本实验是在磁控溅射法[6][7]制备Ti/ NdFeB磁性薄膜的初期，在其他工艺参数[8][9][10]一定的条件下，研究溅射类型、时间、基靶距（即在基片与靶材之间距离）这些参数分别对NdFeB磁性薄膜与Ti薄膜厚度的影响。

1 实验条件及方法

1.1 实验条件

广实验用基片为钢片（40Cr、T10），靶材为Ti、NdFeB，保护气体为氩气。采用JDP560CVI型真空多功能磁控溅射设备进行镀膜，本实验中测量测量所用的是美国生产Veecodekak3DT台阶仪，测量要求被测薄膜基片表面台阶清晰，膜面尽量光滑。

1.2 实验方法

基片清洗的功率为100W，真空度为3Pa～5Pa，时间为20分钟，氩气压强为0.5Mpa。直流溅射NdFeB薄膜、射频溅射Ti薄膜时，基础真空度为7.0×10-5Pa，工作真空度为6×10-1Pa～7×10-1Pa,氩气压力为0.5MPa。

2 实验内容及实验结果分析

2.1 工艺参数对NdFeB薄膜厚度的影响

1）溅射类型

本实验中,由于设备条件的限制，溅射NdFeB薄膜只能采用直流溅射类型，所以，只需确定直流溅射工艺参数对NdFeB薄膜厚度的影响。……