孙滢翔，杜 彪，吴建明

(中国电子科技集团公司第五十四研究所，河北石家庄050081)

0 引言

口面场分布函数的选择是双反射面天线赋形设计的关键问题之一。大量研究表明，口面场分布函数对赋形双反射面天线的增益和近轴旁瓣起到决定作用［1］。

赋形双偏置天线采用了偏置结构，消除了遮挡，其辐射性能比圆对称反射面天线更好，但天线的非对称性结构导致了天线加工成本增高，限制了该类天线的广泛应用。平方公里阵天线(SKA)［2］将由约3 300面15 m口径的天线组成，要求天线的辐射性能优异。巨大的需求数量可以使单个天线的加工成本降低，因此双偏置格里高利天线是一种较为理想的天线形式。

圆对称双反射面天线口面场分布函数的研究已有许多文献和论著介绍［1，3，4］，主要是针对有遮挡的双反射面天线进行，而有遮挡的口面场分布函数并不适用于无遮挡双偏置反射面天线的赋形设计，因此需要对无遮挡形式的口面场分布函数进行深入研究。

1 几何参数变化对口面场分布的影响

文献［5］通过选取馈源方向图和对称面(中截面)口面场分布函数，对天线主副反射面的对称面曲线进行赋形，通过构造矢量函数［6］求得副反射面，再根据反射定律、等光程条件求得天线主反射面。

下面将固定对称面上的口面场分布，改变天线的几何参数来研究整个口径面上口面场分布的变化。

对于双偏置反射面天线，选定主反射面直径DM、副反射面直径Ds、主反射面焦距FM、主反射面对副反射面的净距H及馈源照射半张角作为初始几何参数，即可计算出天线的其他几何参数。……