唐伟忠，于盛旺，范朋伟，李义锋，苏静杰，刘艳青

(北京科技大学材料科学与工程学院，北京100083)

高品质金刚石膜微波等离子体CVD技术的发展现状

唐伟忠，于盛旺，范朋伟，李义锋，苏静杰，刘艳青

(北京科技大学材料科学与工程学院，北京100083)

金刚石膜拥有许多优异的性能。在制备金刚石膜的各种方法之中，高功率微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法因其产生的等离子体密度高，同时金刚石膜沉积过程的可控性和洁净性好，因而一直是制备高品质金刚石膜的首选方法。在世界范围内，美、英、德、日、法等先进国家均已掌握了以高功率MPCVD法沉积高品质金刚石膜的技术。但在我国国内，高功率MPCVD装备落后一直是困扰我国高品质金刚石膜制备技术发展的主要障碍。首先综述国际上高功率MPCVD装备和高品质金刚石膜制备技术的发展现状，包括各种高功率MPCVD装置的特点。其后，回顾了我国金刚石膜MPCVD技术的发展历史，并介绍北京科技大学近年来在发展高功率MPCVD装备和高品质金刚石膜制备技术方面取得的新进展。

MPCVD金刚石膜沉积技术;高品质金刚石膜

1 前言

由于金刚石膜同时拥有许多优异的性能，如极高的硬度和弹性模量、极高的室温热导率、相对宽的禁带和电磁波透过范围、极佳的介电和绝缘性能、优异的半导体性能、良好的化学稳定性、极高的抗辐射阈值等，因而是众多传统及高技术领域中迫切需要的一种新材料［1］。

在目前多种可用于制备金刚石膜的方法之中，微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法由于其产生的等离子体密度高，金刚石膜沉积过程的洁净性和可控性好，因而一直是制备高品质金刚石膜的首选方法。……