王道云，赵元黎

（郑州大学物理工程学院，郑州 450001）

直流磁控溅射法制备YBCO超导薄膜研究

王道云，赵元黎

（郑州大学物理工程学院，郑州 450001）

文中采用直流磁控溅射法制备了YBCO超导薄膜，研究了镀膜过程中不同的气体总压、氧氩比、薄膜厚度以及退火温度对薄膜性质的影响，通过XRD分析，当总气压为40Pa、氧氩比为1∶2、厚度为1μm、退火温度为800℃时，是薄膜生长的最佳条件。总气压过低，镀膜过程不能进行，气压过高，分子间自由程增加，溅射速率降低；氧氩比较低时，氧离子较少，造成靶材缺氧，镀膜过程不能进行，氧氩比较高时，辉光明亮，对靶材造成损害；随着薄膜厚度的增加，薄膜的005峰半高宽由大逐渐减小，薄膜厚度为1μm时，半高宽最小。退火温度在780℃～800℃之间时，YBCO薄膜005峰的半高宽较小。

直流磁控溅射；YBCO超导薄膜；XRD

1 引言

高温超导材料出现以来，人们逐渐发现由超导体薄膜制作而成的原子层热电堆在激光（远红外至紫外）能量的测定、激光剖面的成像、热辐射探测、毫米波探测等领域有着广泛的应用前景[1]。与传统的探测器相比，激光感生热电电压器件有工作波长宽（从毫米波到远红外到紫外）、无需加偏置电压或电流、响应时间短（从纳秒到皮秒）和能在室温下工作的特点，这些优良的特性受到了人们的广泛关注[2]。

目前制备超导薄膜的方法有很多种[3]，例如，脉冲激光沉积法（PLD）、金属有机化合物气相沉积法（MOCVD）、金属有机溶液沉积（MOD）和溅射法等。

溅射法是制备钇钡铜氧（YBCO）超导薄膜的重要方法[4]。……