APP下载

立方形纳米铜的制备研究

2023-01-28张慧捷常越凡李宗儒薛永强

山西化工 2022年8期
关键词:晶面扫描电镜立方体

张慧捷,常越凡,李宗儒,薛永强*

(1.山西工程职业学院,山西 太原 030009;2.太原理工大学,山西 太原 030024)

引言

纳米材料是一种新型前沿材料,具有多种特殊性能,已在各行各业、各方领域中表现出良好的应用前景[1],尤其在《中国制造2025》中关于推动新材料重点领域突破的部署中指出“要做好纳米材料等战略前沿材料提前布局和研制”,因此,近年来众多科研者更加重视对纳米材料的研究与探索,尤其是纳米金属的制备已成为焦点[2]。在纳米金属中,用作基础工业原料的纳米铜,以其优异的性能可用作金属纳米润滑油添加剂[3]、高效催化剂、药物添加剂、导电浆料等,应用范围极其广泛[4],所以,纳米铜的制备研究备受关注。

纳米铜的性能与其形貌有关,规则的形貌有助于提升纳米铜的性能,然而目前规则形貌纳米铜的可控制备的报道较少,尤其是立方形形貌纳米铜。Jana 等[5]制备得到了立方形纳米铜,所用的制备方法为“两步合成法”,需要使用N2保护气氛,依次以NaBH4和抗坏血酸钠作为还原剂,将CuSO4还原而得到立方体纳米铜。这种方法对实验条件的要求比较严格,过程中需要N2的保护,操作并不简单方便。Zhou 等[6]以SDBS 为保护剂,用N2H4·H2O 还原CuCl2,制备得到了Cu 纳米立方体,边长为50 nm±6 nm,但在6 个{100}面的中心有空洞缺陷。因而,立方形纳米铜的制备中还存在诸多问题,仍有待进一步研究。

本文采用液相还原法,以CuCl2·2H2O 作为铜源,葡萄糖作为还原剂和分散剂,十六胺HDA 作为形貌控制剂,制备了立方体形貌的纳米铜,并探究了HDA用量对立方体纳米铜形貌的影响。

1 实验部分

1.1 试剂与仪器

氯化铜、十六胺、无水乙醇、葡萄糖,均为分析纯。

FA2004B 型电子分析天平;DF-101S 型集热式恒温加热磁力搅拌器;JSM-6701F 型扫描电子显微镜,DZF-6020 型真空干燥箱;GL-22M 型高速冷冻离心机;XRD-6000 型X-射线衍射仪。

1.2 立方形纳米铜的制备流程

1)称取0.525 g CuCl2·2H2O 于250 mL 水中,缓慢加入一定量的HDA,30 ℃下混合搅拌2 h,得到淡蓝色悬浊液;

2)再加入1.25 g 葡萄糖,混合搅拌15 h,状态仍为淡蓝色悬浊液;

3)将以上淡蓝色悬浊液转移入油浴加热装置,温度设置为100 ℃,反应12 h,得到暗红色悬浊液;

4)高速离心,分离产物,用无水乙醇洗涤数次,得到产品。

制备流程图如图1。

图1 制备立方体形貌纳米铜的流程

1.3 表征方法

产物的晶型、尺寸和微观形貌使用X-射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)表征。

2 结果与讨论

2.1 十六胺HDA 用量对立方形纳米铜形貌的影响

为了探讨HDA 用量对纳米铜形貌的影响,固定反应液总体积为250 mL,分别改变HDA 的用量为17.2、18.0、18.5 mg/mL 进行实验,反应时间保持12 h。下页图2 为制备得到的纳米铜产物的扫描电镜SEM照片。

图2 纳米铜的扫描电镜照片

由图2 可以看出,当十六胺HDA 的用量是17.2 mg/mL 时,纳米铜产物中明显混有大量线状形貌;而当十六胺HDA 用量是18.0 mg/mL 时,纳米铜产物中的线状形貌大量减少,而以立方形为主,但掺杂着一些棒状形貌和少许四面体形貌;当十六胺HDA 用量是18.5 mg/mL 时,四面体形貌反而有所增多。因此,为了得到立方形貌,下一步的研究应该锁定十六胺HDA 用量为17.2 mg/mL~18.0 mg/mL 之间。

固定反应液总体积为250 mL,分别改变HDA 的用量为17.3、17.5、17.6、17.8 mg/mL 进行实验,反应时间保持12 h。图3 为细化制备条件下所得纳米铜产物的扫描电镜SEM 照片。

图3 细化制备条件下所得纳米铜的扫描电镜照片

由图3 可以看出,当HDA 用量为17.3 mg/mL时,产物纳米铜中混有棒状形貌,当HDA 用量增加到17.5 mg/mL 时,得到的纳米铜形貌为较好的立方形,当HDA 用量增加到17.6 mg/mL 时,纳米铜的形貌仍然为立方体。当HDA 的用量继续增加,超过17.6 mg/mL 增加到17.8 mg/mL 时,纳米铜中又出现了棒状形貌。由此得出,制备立方形纳米铜的最佳HDA 用量是17.5 mg/mL~17.6 mg/mL。

2.2 XRD 表征结果

图4 为立方体形貌纳米铜产物的XRD 谱图。

图4 制备所得立方体纳米铜的XRD 图

由图4 可以看出,谱图中纳米铜产物的衍射峰位置与铜标准衍射卡片JCPDS(04-0836)完全一致,并且没有出现其他杂峰,表明产物纯度高、无杂质。然而,由文献报道得知,纳米铜的XRD 谱线中,立方体形貌与常见的球形、线形等形貌相比较为特殊,立方体形貌的最高衍射峰应为{100}晶面对应的峰[7],但是本文得到的立方形纳米铜的最高衍射峰仍是{111}晶面对应的峰,只是{100}晶面的峰强有所增高,因此认为这是由于在得到的纳米铜产物中,虽然立方体结构是绝对主导形貌,但仍有少许非立方体存在,因此,形貌的不完全一致性是导致{100}晶面峰强增高、但未成主峰的原因。

2.3 SEM 表征结果

图5 为立方体纳米铜的扫描电镜SEM 照片。

图5 制备所得立方体纳米铜的SEM 照片

由图5 可以看出,纳米铜产物的绝对主导形貌是立方体结构,但仍掺有少许非立方形的块状物,分析其原因,认为可能是由于在反应过程中,作为形貌控制剂的HDA 分散不够均匀造成修饰结果不一致而导致的。如何提高立方体形貌的均一性需要进一步探究。

3 结论

采用液相还原法,以CuCl2·2H2O 作为铜源,以葡萄糖作为还原剂和分散剂,十六胺HDA 作为形貌控制剂制备得到纳米铜,通过调节十六胺HDA 的用量来控制纳米铜的形貌呈现立方体结构,且纯度高、分散性好。立方体纳米铜的制备条件:反应液总体积为250 mL,反应时间为12 h,最佳HDA 用量控制在17.5 mg/mL~17.6 mg/mL;立方体形貌的均一性有待进一步优化。本文结果为制备立方形纳米铜的研究奠定了基础。

猜你喜欢

晶面扫描电镜立方体
NaCl单晶非切割面晶面的X射线衍射
(100)/(111)面金刚石膜抗氧等离子刻蚀能力
扫描电镜能谱法分析纸张的不均匀性
扫描电镜能谱法分析纸张的不均匀性
内克尔立方体里的瓢虫
α-HgI2晶体附着能的计算
图形前线
立方体星交会对接和空间飞行演示
折纸
立方晶格晶面间距的计算