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直流电弧等离子体喷射化学气相沉积法制备金刚石膜过程中冷阱的设计及作用*

2022-05-30陈良贤邵思武郑宇亭黄亚博白明洁张建军刘金龙魏俊俊李成明

金刚石与磨料磨具工程 2022年2期
关键词:系统

陈良贤,邵思武,刘 鹏,安 康,2,郑宇亭,2,黄亚博,白明洁,张建军,刘金龙,魏俊俊,李成明

(1.北京科技大学 新材料技术研究院,北京 100083)

(2.北京科技大学顺德研究生院,广东 佛山528399)

金刚石是自然界中硬度和热导率最高的材料,被广泛应用于机械加工和电子高功率密度器件的散热中[1],如用于5G 通讯的过滤器等。同时,金刚石在宽波长范围的高透明度和高折射率,使其在光学领域的应用逐步拓展[2-4]。金刚石中NV 色心[5]和SiV 空位中心[6]的存在,使其不仅可以用作磁场和电场的传感器[7],还可用于量子信息技术[8]。此外,金刚石在电化学中显示出的最宽的电化学电位窗口、良好的生物相容性可以应用于电化学电极、电化学检测器以及生化传感器中[9-10]。由于金刚石具有耐辐射性能,其已被用作剂量计和荧光光束监测器[11-12]。而解决金刚石大规模应用的首要问题是如何提高高质量、大尺寸多晶金刚石薄膜的生产效率,以及如何降低其生产成本等。

目前,大尺寸金刚石膜的制备主要基于化学气相沉积方法(chemical vapor deposition,CVD),而直流电弧等离子体喷射化学气相沉积法(DC arc plasma jet chemical vapor deposition,DCPJCVD)是制备高品级大面积多晶金刚石膜的优异方法[4]。DCPJCVD 法制备效率高,沉积的金刚石晶圆直径可达150 mm 以上,研磨抛光后的厚度可达3 mm 以上,并且热导率最高可达2 000 W/(m·K)[13-14]。

在DCPJCVD 设备中,气体循环系统作为重要且特殊的组成部分,起到了维持设备稳定运行的重要作用。同时,将工艺气体循环利用,气体消耗量降为原来的10%左右,大幅降低了生产成本[15]。……

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