APP下载

专利名称:一种钼镍铜多元合金溅射靶材及其制备方法

2022-03-24

中国钼业 2022年5期
关键词:金属化熔点静压

专利申请号:CN201911037789.7

公开号:CN110670032A

申请日:2019.10.29

公开日:2020.01.10

申请人:金堆城钼业股份有限公司

本发明公开了钼镍铜多元合金溅射靶材及其制备方法,由以下质量组分组成:Ni 5%~45%,Cu 1%~10%,余量为Mo,以上组分的质量分数之和为100%;通过混料—冷等静压—热等静压—去除包套—一火多道次热轧—退火—机加工等,得到钼镍铜多元合金靶材。本发明制备方法通过混匀钼镍铜粉体,避免单纯钼合金熔点较高而无法采用常规雾化法的局面;通过设置烧结工艺参数,解决了多元合金中3种金属粉末熔点相差较大不易烧结的问题;通过溅射靶材金属化,解决了电沉积法进行陶瓷金属化所产生的精密性及安全性差的问题;制备的钼镍铜多元合金溅射靶材,气密性好、耐湿耐潮、高密度、高纯度,提高陶瓷-金属封接材料的使用寿命。

猜你喜欢

金属化熔点静压
静压法沉桩对周边环境影响及质量控制
Al2O3对P2O5-B2O3-Bi2O3体系低熔点玻璃结构和性能的影响
静压托换桩在某湿陷性黄土场地地基加固中的应用
高锌低熔点低膨胀微晶玻璃性能的研究
超精密液体静压转台装配技术
一种基于空气静压支承的自调心装置
B-99氧化铍陶瓷金属化研究
铜铟镓硒靶材金属化层制备方法
钨基密封材料化学镀Ni-P镀层的制备方法
低熔点玻璃粉/硅橡胶可瓷化复合材料的制备与性能