曹 静，孙冬兰，刘 靖，张洪峰，田雨可，安佳钰，刘玉春

(1. 天津科技大学 理学院，天津 300457；2. 天津科技大学 化工与材料学院，天津 300457)

0 引 言

近年来，电致变色的研究吸引了众多研究者的兴趣，电致变色领域呈现出了生机勃勃的景象。三氧化钨因电致变色响应较高、循环稳定性好且制备方法多样而被认为是最好的阴极电致变色材料之一[1-2]。目前，已上市的WO3电致变色产品主要是由磁控溅射的方法制备，但磁控溅射法技术复杂、所需设备昂贵，使得WO3薄膜的生产成本高[3]。而Sol-gel法可降低成本，还具有设备简单、易掺杂等优点，尤其是在大面积镀膜方面具有极大优势[4]。Sol-gel法制备WO3薄膜由于钨源的不同可分为钨酸盐离子交换法[5-7]、氯化钨的醇化[8-10]法、钨粉过氧化聚钨酸法[11-14]等，这些方法均没有工业化生产。本研究中具体采用的是钨粉过氧化聚钨酸法。总结上述方法至表1。从表1可知，Sol-gel法的制备工艺不稳定，因此，目前为止，Sol-gel法制备WO3薄膜的商业化应用没有进展。对于Sol-gel法制备的WO3薄膜，广泛研究了溶胶成分和后热处理对其微观结构及性能的影响[8,13,15-17]，而对于Sol-gel法制备WO3薄膜过程的各影响因素的系统研究未见报道。本研究探究Sol-gel法制备过程中的各个影响因素对薄膜电致变色性能的影响，目的是找出最大的影响因素，使其制备工艺稳定化，降低制备WO3薄膜的成本。

表1 部分文献所报道的氧化钨薄膜电致变色性能的比较Table 1 Comparison of electrochromic properties oftungsten oxide thin films reported in references

本研究设计正交实验采用Sol-gel法制备氧化钨薄膜，研究H2O2用量、反应温度及热处理温度三因素对制备WO3薄膜电致变色性能的影响大小。……