半导体光刻技术与专利之争
2021-12-13曹欣欣
电脑报 2021年46期
曹欣欣

阿斯麦的崛起
苹果自研芯片的实力大家有目共睹,从移动端使用的A系列到电脑端用的M系列都是碾压同期竞品的存在。近期有报道称,苹果计划最快于2023年推出由台积电代工的3nm Mac芯片,也就是第三代Apple Silicon芯片,内部代号分别为“Ibiza”、“Lobos”以及“Palma”。在半导体制造中,3纳米工艺是继5纳米MOSFET技术节点之后的下一个技术。三星和台积电已宣布计划将3nm半导体节点投入商业生产,它基于GAAFET(全能栅极场效应晶体管)技术,这是一种多栅极MOSFET技术。
在半导体晶圆(基板)上烧制出电路的光刻工序是半导体制造过程中最为重要的工序之一,所以近年来也成为了科技公司争夺的“技术高地”。
光刻设备由以荷兰为大本营的阿斯麦(ASML)掌握压倒性份额,据Bloomberg数据,全球五大半导体设备制造商分别为应用材料(AMAT)、阿斯麦(ASML)、东京威力科创(TEL)、科林研发(Lam Research)、科磊(KLA),这五大半导体制造商以其领先的技术、强大的资金支持占据着全球半导体设备制造业超过70%的份额。
1984年,电子巨头飞利浦和芯片机器制造商(ASMI) 创建了一家新公司AMSL,目的是为了满足不断增长的半导体市场而开发光刻系统。当时办公室尚在母公司的空地一旁的木屋内,仅有百余人陆续加入,同年推出第一个系统——PAS 2000步进机。

工程师在ASML一培训中心使用 EUV 光刻机
到了1988年,飞利浦在中国台湾成立合资代工厂后,ASML开始进军亚洲市场。ASML并非一帆风顺,在上世纪八九十年代也经历过倒闭危机。几番挣扎,得到IPO的投资后,推出了突破性平台PAS 5500,才得以翻身。……
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