徐嶺茂，王济洲，李 坤，王多书，周 晖

（兰州空间技术物理研究所 真空技术与物理重点实验室，兰州 730000）

0 引言

随着空间遥感技术的不断发展，对高分辨率遥感数据的要求也在不断提高[1-3]，多光谱或全光谱成像光学系统是未来军事侦查、资源探测等获得高分辨率遥感数据的主要手段之一。作为光谱成像光学系统的重要组成部分，红外光学薄膜具有非常广泛的应用。

中波红外谱段光学薄膜膜层较厚，尤其是窄带滤光片等光谱指标要求较高的红外光学薄膜，通常厚度能达到几十微米，对于蒸发膜料的需求非常大。如果镀膜真空室尺寸较大，无法在保证光谱性能的情况下一次完成膜层镀制，只能采用分炉中间添加膜料的方法镀制，但是需要较长的抽气过程，以致制备效率较低。同时，军工需求的光学产品批量小、尺寸小，直接采用原有镀膜基片工装会造成大量的蒸发膜料浪费。此外，在光学薄膜制备过程中，膜厚均匀性是一个非常重要的，且比较难解决的技术问题[4-6]。

针对中波红外光学薄膜镀制过程中遇到的膜料利用率低、膜厚均匀性差等问题，根据理论分析，在行星式平面工件盘的基础上，设计一套可自由调节高度及大小的旋转平面基片工装，减小蒸发源与基片的距离。通过镀制单层膜，计算确定基片与监控片沉积速率的比例系数，再通过厚度监控来控制膜层厚度，为高质量中波红外光学薄膜的高效镀制提供必要条件。……