魏晓群，谢旦艳，华卫群

（中微掩模电子有限公司，江苏无锡 214028)

1 引言

掩模数据处理即使用专用数据处理软件，将客户提供的版图数据经过逻辑运算、张缩量添加处理等操作后，在掩模版上将数据框、主芯片等图形进行布局摆放，形成最终的制版图形效果[1-2]。本文描述的掩模可制造性规则检查（Manufacturing Rule Check,MRC）主要针对掩模数据处理后的MEBES格式数据图形，采用现有数据处理软件进行检查，抓取规则有限，本文主要在现有基础上，从MRC检查的参数设置以及实际曝光效果两方面入手，通过实验数据比对，获取更优化高效的MRC结果，提高现有效率。

2 MRC介绍

2.1 MRC的设定

MRC的设定主要考虑因素如下：

（1）产品等级对应机台的曝光能力；

（2）设计的最小特征尺寸；

（3）特殊图形。

目前在实际处理过程中，MRC的设定偏向于上述前两点因素。

MRC规则主要包括如下内容：

（1）对图形的最小线宽、线间距做出规定；

（2）对图形拐角之间间距的最小值做出规定；

（3）对辅助图形的最小面积做出限定。

大量的MRC图形抓取符合上述前两点的描述。

2.2 MRC结果显示

通过现有专用数据处理软件进行规则检查，图形抓取结果如图1所示，见图中绿色“+”显示部分。

图1 MRC结果显示

2.3 MRC图形分类

对目前抓取的MRC图形结果分析发现，MRC图形按形成原因可简单分为如下3种。

2.3.1 版图设计图形缺陷

在版图设计时，两块图形间未连接，留有非常细小的间隙，但此类图形过小，未被检查出，线间距图形如图2所示。在掩模数据处理完后，通过MRC检查则可抓出此类图形，并通知设计人员。……