王 鹏，傅其栋，李雨芮，叶芳伟

（上海交通大学物理与天文学院，上海 200240）

1 引 言

莫尔晶格是指两个相同或者相似周期结构（称子晶格）重叠形成的复合结构。由于两个子晶格晶格常数的差异或者叠加时两个子晶格之间存在转角，该复合结构会在原来子晶格周期的基础上，产生一套长周期图样，即所谓莫尔条纹。在生活中，莫尔条纹并不罕见，比如：将两把梳子重叠即可形成莫尔条纹，两面纱窗重叠处会产生莫尔条纹，电风扇的前后网罩在视野中重叠也能产生莫尔条纹。当人们用手机拍摄电脑屏幕时，经常会看到彩色的莫尔条纹，摄影爱好者在拍摄衣织物时也会发现在照片上出现恼人的莫尔条纹[1]。鉴于莫尔条纹的长周期特点，莫尔条纹在艺术设计、纺织业、建筑学、图像处理、测量学和干涉仪等方面都有一些独特的应用，但这些应用基本上都是基于莫尔条纹的几何特点，对于莫尔条纹或莫尔晶格物理性质的研究并不多见。

对莫尔晶格物理性质的研究主要起源于范德华尔斯（van der Waals，vdW）异质结结构[2-5]。vdW 异质结结构是指两层（或者多层）二维材料堆叠在一起形成的超晶格，层间通过范德华尔斯力相互耦合。受层间耦合的影响，vdW 异质结出现单层材料所不具有的光电响应特性[4-9]。进一步，如果将上层材料相对于下层材料转过一个小角度（本文称其为“莫尔角”），就会出现原子晶格在二维空间排布的莫尔条纹。该莫尔条纹周期性地调节层间耦合，导致系统的能带结构发生显著改变。……