金属栅格和透明导电膜混合结构的设计及电磁屏蔽效能分析
2021-05-15张家豪官继红刘长军
张家豪,官继红,刘长军
1. 四川大学 电子信息学院,四川 成都 610064
2. 深圳麦格米特电气股份有限公司,广东 深圳 518057
随着现代技术的发展,电磁波引起的电磁干扰(electromagnetic interference, EMI)和电磁兼容(electromagnetic compatibility, EMC)问题日益严重,另外电磁波泄漏也会干扰其他设备[1]。为了减小或避免电磁辐射造成的影响,通常在设备中引入电磁屏蔽结构。镀金属膜屏蔽玻璃在低频时具有良好的屏蔽效能,在100 MHz 时可达到36 dB[2]。在机箱的通风孔采用金属丝网和电磁密封衬垫结合加装的方式,同时在窗口箱体板开设通风孔洞,在保证通风效果的条件下,提高机箱的屏蔽效能[3]。
透明导电薄膜是实现电磁屏蔽和可视兼容的常用材料,由于其在光学和电子设备中的广泛应用而备受关注[4]。近些年,许多新型材料的导电薄膜被广泛研究,采用特殊的制备方法,可以有效提高薄膜的质量和性能[5-7]。超薄金属导电薄膜具有柔性好、导电性好、成本低和可大规模制备等优点,有望成为替代氧化铟锡(Indium Tin Oxide,ITO)的理想材料[8]。对具有透明导电薄膜的多层屏蔽结构的屏蔽效能进行探究,常用的屏蔽效能测量方法有同轴传输线法、法兰同轴法、喇叭天线法等[9-10]。本文所提出的屏蔽系统工作频率为S 波段,因此采用喇叭天线法,通过测试有无屏蔽体时的电场强度,根据屏蔽效能公式得出该屏蔽体的屏蔽效能。
本文研究了有透明导电膜的多层平面结构的电磁性能,分析了层状结构的电磁屏蔽机理,以及仿真与测试的结果,对于如何选取合适的导电膜提出了依据,对于电磁兼容和电磁屏蔽领域具有潜在的应用价值。……
