TFT-LCD产业中PVX OPEN不良改善研究
2021-04-12福州京东方光电科技有限公司王新伟陈伟涛李云娜汪宗源
电子世界 2021年5期
关键词:效果
福州京东方光电科技有限公司 王新伟 王 宁 陈伟涛 李云娜 汪宗源 周 贺
通过对TFT-LCD制造中PHOTO工艺PVX OPEN不良产生机理的研究,提出改善PVX OPEN不良的方法。分析表明PVX OPEN不良主要成因为PR胶涂布前细菌粘附在玻璃基板上,曝光显影后造成PR胶破洞,PVX刻蚀工序完成后形成对应位置PVX OPEN;通过改善生产气流及定期清理细菌等措施,PVX OPEN发生率由最初的6%以上降低到0.5%以下,且改善周期可持续2个月以上。
随着薄膜晶体管-液晶显示器(TFT-LCD)发展,液晶市场竞争越来越激烈,TFT-LCD产品以其轻薄、环保、高性能等优点,尺寸越做越大,应用越来越广。一方面面板企业在向大世代线方向发展,另一方面,顺应市场需求,传统8.5代线开始生产大尺寸产品。因受到基板尺寸限制影响,不良对较大尺寸产品良率的影响将成倍增加(不良PANEL数/单张TFT基板总PANEL数)。
TFT生产技术最核心的部分是光刻工艺,它既是决定产品品质的重要环节,也是影响产品成本的关键部分。光刻工艺常规的OPEN&REMAIN(膜层破洞/残留)类不良,通过设备维护、清洁等均可以得到改善,而PVX OPEN类不良的产生机理为细菌导致,细菌繁殖速度快,一般约20~30min便分裂一次,即为一代,仅靠设备PM(设备维保)等常规设备维护方式,无法进行抑制和改善,严重影响着产品良率。同时,也因频繁停机维护而降低产能,增加能耗与人力成本等。一般而言,降低成本已成为企业赖以生存的重要法则。因此,找出有效药液或其他措施对细菌进行抑制和改善,对于提升企业的市场竞争力尤为重要。……
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