(中国可再生能源学会，北京 100190)

7) 其他正在开发PECVD 设备的公司。目前至少有3 家公司正在开发PECVD 设备产品，分别是北京捷造公司、捷佳伟创公司和迈为公司。

北京捷造公司已经开发出1 台可用于产业化的链式PECVD 设备，并提供给汉能公司进行试验，且得到了不错的反馈。

捷佳伟创公司致力于打造制备HJT 电池时各个环节所需设备，并试图进行交钥匙解决方案。目前该公司已经拥有较为成熟的清洗设备、RPD设备(捷佳伟创公司掌握了日本住友公司关于该设备在中国的开发与销售权)、丝印设备，只缺少PECVD 设备。该公司预计于2020 年推出自己的用于HJT 电池制备的PECVD 设备。

迈为公司目前正在开发一种动态PECVD 设备。该设备创新性的概念是让载有硅片的载板在等离子辉光放电的过程中运动地通过等离子区域。这一概念的好处是：①避免了由于等离子起辉过程中初始状态不稳定导致的硅片表面非晶硅孵化层缺陷较多的问题；②沿硅片行进方向的镀膜均匀性较好；③沉积速率较快。

但是这种动态沉积方式也存在一些问题，具体为：①衬底运动会扰动等离子体的稳定性；②等离子体粉末沉积到导轮上，会使下电极出现绝缘现象，从而影响等离子体；③沉积工艺条件难以改动。由于沉积时间与衬底运动速率有关，因此当调整硅烷浓度、等离子强度、沉积时间等参数时势必影响沉积速率，而这样就需要改变一个腔室内部的载板运动速率，但改变一个腔室内的载板运动速率势必会影响到后续沉积工序的节拍。……