《中国经济周刊》：中国市场对ASML意味着什么？鉴于当前的国际形势，ASML进入中国市场的前景如何？您认为ASML和中国可以在哪些方面进行合作？

雷吉梅克：ASML已经向中国供应机器。我认为中国将成为最大的芯片制造商。在过去的3年中，中国在ASML的销售额占比已达10%～15%，而且无论是否可以将EUV机器交付到中国，这种增长都会继续。

不允许ASML向中国交付EUV机器的原因是美国对荷兰政府施加的压力。

如果ASML能够将EUV机器出售给中国，会如何？如果把7nm看作一个成熟的节点，我希望中国能在两年左右的时间内进入量产阶段。这需要投入巨大的精力。而5nm则需要更长的时间。如果没有限制，中国肯定能在5至10年内完成追赶。届时，第二代EUV将投入生产（3nm及以上），我认为这将是最后一代EUV或芯片光刻机。

《中国经济周刊》：ASML在世界各地都有供应商，甚至有人认为ASML所做的只是集成各种设备。您认为，使ASML成为全球领导者的核心竞争力是什么？在其与世界各地供应商合作的背景下，为什么其他公司不能生产先进的光刻机？

雷吉梅克：ASML“只是集成各种设备”是一个谬论。

ASML最初只是一家小公司，除了外包生产（如精密零件和镜片）和购买标准零件（如激光器、传感器等）外，别无选择。

它的核心竞争力是其发明、设计和生产非常复杂的系统的能力。集成所有子系统和组件的能力，这才是ASML真正的优势所在。这是最复杂的部分——确保所有内容无缝协同工作，以实现高速、高精度的24/7操作。

ASML已经收购了几家最初是子系统供应商的公司，例如Cymer（激光和EUV光源）和Berliner Glas（微晶玻璃和光学组件）。进行这些收购的原因是，各个部门的工程师无法将子系统与步进器（半导体制造的一种关键设备）的其余部分集成在一起，ASML必须接管控制权。

我认为对于ASML来说，有两个至关重要的关键点：

其一，ASML拥有大量的受保护的专利和知识产权。事实上，ASML是一个知识密集型企业。你可以理解为他们创建了一个新的实验室，做了很多新的发明。而且他们非常擅长系统集成方面的知识，他们的工程师了解如何将这些制作光刻机所需要的元件集成在一起，也知道如何组装一个光刻机。对于“ASML仅仅只拥有12%制造光刻机核心技术”的说法，我并不认同，我认为ASML已经掌握了超过一半的核心技术。

其二，ASML仍然会从许多供应商那里购买关键部件。如果技术不能很好地转让给ASML，ASML就会告诉研究人员，让他们按照公司的计划去开展研究。

在过去的36年中，ASML在研发方面投入了大量资金，如今每年在研发方面的支出约为20亿欧元。这个“研发机器”现在非常强大，可以在需要時充当问题解决者的角色。每当发生危机时，总会有ASML研发应急团队随时准备解决问题。例如，当该行业未能为EUV制造开发标准时，ASML在很短的时间内发明了该技术。

《中国经济周刊》：光刻机是工业制造的明珠。为什么美国、德国、英国等工业基础雄厚、科研实力强的国家没有像ASML这样的光刻行业巨头？日本的尼康和佳能为什么不能成为像ASML一样的公司？

雷吉梅克：这是由于光刻机行业的复杂性和资本密集性。对于ASML的成功，我认为在很大程度上有运气成分。

荷兰是一个小国，但它是飞利浦的故乡。当飞利浦和ASML决定共同开展业务并开发机器时，ASML实际上是一个濒死的婴儿——它排在光刻机行业的末位。

作为一家技术驱动的大型跨国公司，飞利浦在20世纪60年代和70年代取得了巨大成功。飞利浦研究中心在20世纪70年代开发了一种晶圆步进器，他们认为这会带来技术优势。幸运的是，晶圆步进器在飞利浦的一个技术角落中得以存活。

美国人退出光刻机行业的竞争，是因为他们没有长期计划，而且GCA（美国公司，上世纪80年代初光刻机行业的全球销量冠军）的技术确实无法令人满意。

虽然德国等其他国家也在努力开发步进器，但我认为可能是因为复杂性和资本密集度，导致最终失败。

我认为，摩尔定律奠定了半导体产业的基础，光刻机厂商之间必然存在激烈的竞争。如果他们无法及时地将自己的产品推向市场，就会退出光刻机的主流市场。自上世纪90年代中期开始，ASML将机器推向市场的速度就比尼康和佳能还快。

在1984年时，ASML还是这个行业名单上的倒数第一。尽管如此，他们仍然下定决心要成为光刻机的NO.1。用ASML的话说，争取第二名或第三名是没有用的，只有当你成为第一名，才能成为赢家。如果一开始没有成为第一名的雄心，就没必要开始，这个观点适用于任何将复杂产品或资本转化为生产或服务密集型的行业。

《中国经济周刊》：中科院宣布将攻坚光刻技术，您认为他们必须解决的问题和难点有哪些？ASML的成功能否被复制？

雷吉梅克：这项技术非常复杂，中国可能需要很长时间才能制造出晶圆步进器。我认为中国能够开发出相当先进的DUV机器，但是EUV将会面临挑战，例如真空、镜面投影、非常先进的控制系统。

即便中国开发出了晶圆步进器，ASML将会有更先进的技术进入市场。

但毫无疑问的是，中国拥有足够的资金和知识储备，一旦拥有设备，就可以启动先进晶圆工厂项目。

我认为使用DUV技术和多重图案，也可以生产很多新一代的芯片。未来芯片的设计和应用创新是中国必须重点关注的领域。

即使是ASML的顶级技术人员，也不了解整个机器的全貌，只有少数人能够理解机器是如何工作的。即使其他国家的公司参与到光刻机的竞赛中，也没人会低估光刻设计的难度，而且它是极难复制的。

ASML在光刻机方面拥有大量的专利，且ASML非常重视专利保护，他们研发机器的所有技术都是最高机密。

过去，由于摩尔定律的存在，参与这场竞赛的唯一机会就是制造出一台比竞争对手更先进的机器，这是上世纪80年代的游戏规则，到上世纪90年代就已经不是这样了。

如果你想制造出一台光刻机，就需要在技术上投入大量的资金和人力，然而这样的技术也只能维持几代人。想复制ASML的成功，需要企业同时拥有资金、人才、政府支持以及历史性的机遇。对于中国来说，与其投资半导体这种已经很传统的技术，不如先购买ASML的产品，并专注于研发不同于光刻机的技术路线，从而在硅基技术之后打造未来的信息系统。